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01展會介紹

“2024 國際二維材料會議”作為一次國際化、高水平的研討會，旨在匯聚二維材料領域的科學家、青年科研人員、企業(yè)家，共享、學習并交流二維材料領域的前沿研究成果。

會議將圍繞 2D 材料的生長與合成、二維材料的物理特性和器件、能源存儲和催化、宏觀結構和復合材料等當前二維材料研究領域核心主題展開，通過學術報告、產(chǎn)學研圓桌會、產(chǎn)業(yè)成果展等形式，搭建學術界與產(chǎn)業(yè)界的交流平臺，互學互鑒、共同探索，促進材料領域創(chuàng)新成果孵化。

02展會現(xiàn)場

2024年11月9日至11日，備受矚目的2024國際二維材料會議在溫州盛大召開，吸引了來自世界各地的材料科學專家、學者和企業(yè)代表。本次會議不僅為行業(yè)內(nèi)的專業(yè)人士提供了一個交流和學習的平臺，更是展示科研成果和前沿技術的盛會。

托托科技也受邀參加了此次盛會。在為期三天的展覽中，托托科技展出了其自主研發(fā)的磁光克爾顯微測試系統(tǒng)和無掩膜版紫外光刻機，這兩項技術在二維材料研究領域具有重要的應用價值。

磁光克爾顯微測試系統(tǒng)是托托科技的明星產(chǎn)品之一，它能夠提供高分辨率的磁性信息，對于研究二維材料的磁性特性具有重要意義。該系統(tǒng)以其性能和穩(wěn)定性，受到了與會專家的高度評價。

另一款展出的設備——無掩膜版紫外光刻機，是托托科技在光刻技術領域的突破性產(chǎn)品。該設備摒棄了傳統(tǒng)光刻技術中對掩膜版的依賴，大幅降低了光刻成本，同時提高了光刻效率和精度。

托托科技的展臺成為了本次會議的焦點之一，眾多參會者紛紛駐足了解和交流。托托科技的技術人員耐心地向參觀者介紹產(chǎn)品的技術特點和應用場景，積極回應與會者的提問，現(xiàn)場氣氛熱烈。

通過此次會議，托托科技不僅展示了其在二維材料領域的技術實力，也進一步加強了與行業(yè)內(nèi)外的交流合作。未來，托托科技將繼續(xù)致力于科技創(chuàng)新，為推動二維材料及相關領域的研究和發(fā)展做出更大的貢獻。

03展品介紹

磁光克爾顯微鏡綜合測試設備

磁光克爾顯微鏡綜合測試設備，顯微磁疇空間分辨率優(yōu)于0.5微米，磁光克爾角分辨率優(yōu)于0.1毫度，支持極向克爾、縱向克爾、橫向克爾三種磁光克爾效應測量方式。在追蹤平面內(nèi)數(shù)百萬點的磁疇動態(tài)信息的同時，可搭配探針臺實現(xiàn)電學、磁學、光學同步觀測。廣泛應用于磁學和自旋電子學領域中磁光克爾效應，磁滯回線，磁疇翻轉或擴展等觀測。

案例分享

梯度自旋流實現(xiàn)無場翻轉

(a) 在外磁場HZ=0 Oe，HX=0 Oe下，脈沖電流實現(xiàn)磁疇無場翻轉及對應的翻轉回線。1，2，3，…6表示負向的脈沖電流不斷增加直至磁疇翻轉圖片;

(b)a，b，c…f表示正向電流不斷增加直至磁疇翻轉。其中頂層Pt厚度為2.5 nm。

DMI有效場以及磁疇速度測試

(a)DMI有效場(HDMI) 測量裝置。

(b)垂直各向異性樣品在面內(nèi)磁場作用下，發(fā)生各向異性翻轉。

(c)不同覆蓋層的異質結樣品，其磁疇運動速度隨面內(nèi)輔助磁場的變化

(d)DMI有效場導致磁疇翻轉過程中出現(xiàn)傾斜角且DMI越大傾斜角越大。

無掩膜版紫外光刻機

托托科技無掩膜版紫外光刻機具有 高精度，高穩(wěn)定性 的特點。光刻圖案設計靈活，能夠實現(xiàn)所見即所得的精準套刻以及灰度光刻。

案例分享

平面光刻

TUOTUO LOGO

IC

MEMS器件（a）

500 nm掩膜版

套刻精度測量標記圖

MEMS器件（b）

灰度光刻

托托科技無掩膜版紫外光刻機支持256階灰度光刻

菲涅爾透鏡

TOF擴散器

波前調(diào)控器件

04關于托托

托托科技是一家是專注于光學顯微加工及檢測的光學設備制造廠商。目前公司擁有五個核心產(chǎn)品線：

(A)無掩膜版光刻設備

(B)磁學產(chǎn)品

(C)多模態(tài)光電顯微鏡

(D)超高精度3D光刻產(chǎn)品

(E)3D顯微鏡

已經(jīng)形成了集設計、研發(fā)、制造、銷售及客戶咨詢服務為一體的高科技企業(yè)，致力于給客戶提供技術支持，以技術和細致設計造就品質，以耐心服務和企業(yè)擔當贏得良好口碑。

公司旗下產(chǎn)品的品牌名稱為TuoTuo，擁有中國及新加坡兩個研發(fā)中心，其中托托科技(蘇州)是中國區(qū)業(yè)務的運營主體，TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是國際業(yè)務的運營主體。