高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現溫度的測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測公司是通過多年研究開發了一種可實現高的精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現全溫度控制操作!

     目前電網中大量使用變頻器等高頻、高功率設備，將對電網造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過程中影響弱信號的采集，華測儀器公司推出的抗擾模塊以及采用特殊參數分析技術,實現了高達120MHz的高頻測量,從而滿足了很多半導體,功能材料和納米器件的測試需求.

設備優勢

阻抗分析儀測量&高溫爐基本參數

操作軟件

高速升溫時，配套的快速反應的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝 營采用可編程溫度控制器。高緊湊設計，響應速度愉。為了高速加熱設備采用PID溫度控制， 同時采用移相觸發技術保證試價溫度。

●據設備上的溫度控制器輸入參數， 您也可以簡單輸入濕度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上星示熱中的溫度數據。

●自適應熱電偶包括J、I、S、K、J、T、E、L、N、R、S、B、以及L、U、W型。

●最大可設定32個程序，256個步理的程序。

●30A.60A. 120A內置 TSCR電路所以范圍很廣。

●250mmWx 380mmDx157mmH小巧尺寸D設備配置。

不一樣的加溫方式及多的應用場景