產(chǎn)品簡介：
擁有突破性的功能和擴展功能，Optima 8x00 系列不僅僅是zui受青睞的 ICP-OES 的技術(shù)革新。它是一場技術(shù)革命。Optima 8x00 系列繼續(xù)延續(xù) PerkinElmer 在 ICP 技術(shù)方面的成就和地位，秉承一貫的設(shè)計，提供*的分辨率和線性動態(tài)范圍。更重要的是，8x00 系統(tǒng)的穩(wěn)定性和檢出限是以往任何ICP 儀器都無法企及的。
基于可靠的 Optima 平臺設(shè)計，在業(yè)界的 Windows 7 兼容 WinLab32 軟件的控制下，8x00 系列將令您對 ICP-OES 刮目相看。 該系列的超凡性能是通過優(yōu)化進樣系統(tǒng)、增強等離子穩(wěn)定性、簡化方法建立和大大降低操作成本的技術(shù)實現(xiàn)的。
2.7靈敏度 
旋流霧室和同心霧化器（單位：cps/ppm） 
Mn 257.610nm > 8.5×106，Al 396.153nm > 1×106，Ni 231.604nm > 3×105 As 193.696nm > 1.5×104，Pb 220.353nm > 5×104，P 213.617nm > 3×104 2.8 具有高純氣體中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶應(yīng)用實例。可以分析高純氮氣、氫氣、氦氣中0.1微克/升以下含量的雜質(zhì)。 
2.9 具有99.99%高純材料（例如高純石英砂）中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶應(yīng)用實例。 
2.10 具有鍍鋁鋅板、鋯鐵合金、鈦合金、鋁鐵錳青銅、鑄造鋁合金、耐磨鑄鐵、變形鋁合金、鉛黃銅、黃金合金、催化劑、電鍍液等冶金材料中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶應(yīng)用實例。 
2.11 具有土壤、沉積物、植物、沉積巖、硅灰石、水、動物組織、紡織品、松香、植物油、化妝品、食品、中藥、西藥等樣品類型中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶應(yīng)用實例。  
3．進樣系統(tǒng) 
3.1 霧化器：標配耐HF酸耐高鹽分的霧化器，耐： 50% (v/v) HCl、HNO3、H2SO4、H3PO4，20% (v/v) HF，30% (w/v)NaOH以及30%的高鹽樣品。 3.2 霧化器噴嘴為紅寶石和藍寶石材料制成。 3.3 霧室：標配耐HF酸耐高鹽分樣品。 
3.4 霧室為不親水的高強度高純氟塑料材料制成。 
3.5 分析含HF、HCl、HNO3酸等各種樣品，霧化器和霧室的使用壽命不少于5年，并有超過5年的用戶使用實例。 
3.6炬管為可拆卸式結(jié)構(gòu)，炬管中心管標配為剛玉材料，其使用壽命不少于5年，并有超過5年的用戶使用實例。 
3.7炬管和霧化器、霧室為一體式設(shè)計，從霧室到炬管無需任何管線連接，以減小樣品分析時的記憶效應(yīng)，且炬管和霧化器、霧室可以同時安裝同時拆卸，安裝和拆卸無需任何工具，安裝和拆卸時間不超過1分鐘。 
3.8等離子體和進樣系統(tǒng)分別在兩個室內(nèi)，以減小等離子體的高溫對霧化器、霧室的影響。 
3.9 蠕動泵為內(nèi)置三通道水平式全自動設(shè)計，蠕動泵進樣量從0.1毫升/分鐘到5.0毫升/分鐘連續(xù)可調(diào)，并且具有沖洗功能，在分析完高鹽分樣品后智能快速沖洗以提高分析速度。 
3.10 進樣系統(tǒng)具有溫度控制系統(tǒng)，當環(huán)境溫度變化較大時，溫度控制系統(tǒng)可以較小環(huán)境溫度變化的對霧化器霧化效率的影響，以提高儀器的穩(wěn)定性。  
4．射頻發(fā)生器和等離子體 
4.1 類型：自激式射頻發(fā)生器，無需大功率管。 4.2 頻率：40.68MHz。 
4.3 功率：750W～1500W，1W增量連續(xù)可調(diào)。 4.4 功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%。 
4.5 射頻發(fā)生器的功率傳輸效率優(yōu)于81%。 
4.6 射頻輻射防護滿足FCC管理規(guī)范Part 18的要求，同時符合EC和VDE 0871的B級射頻輻射防護要求。在等離子體點燃的情況下，操作者依然可以安全地調(diào)節(jié)炬管的位置。 
4.7 等離子體為水平式，觀測方式有水平和垂直兩種，在一次分析中可以采用水平和垂直兩種觀測方式，由軟件控制全自動切換，并同時給出兩種觀測方式的測量結(jié)果。 
4.8 等離子體的點燃為全自動控制，除ICP-OES的主機電源外，諸如載氣流量等所有操作參數(shù)都無需手動調(diào)節(jié)。操作者可以設(shè)定儀器自動開機的時間，以及分析完 
樣品后自動關(guān)機的時間，自動關(guān)機和開機的整個過程都無需操作者參與。 4.9 儀器具有全面的安全連鎖保護，隨時監(jiān)測循環(huán)水機的水流、各種氣體的壓力等參數(shù)，即使操作者出現(xiàn)誤操作，也不會對儀器造成損壞和人員的傷亡。 
4.10 由于射頻發(fā)生器的很多參數(shù)無法進行驗收測試，所有上述數(shù)據(jù)以儀器制造商英文原版印刷材料為準。 
4.11 免維護的平板等離子體設(shè)計，通過兩塊鋁板形成等離子體，鋁板無需循環(huán)冷卻水進行冷卻，長壽命，終身免維護。 
4.12 等離子體正常運行的氬氣消耗總量小于10升/分鐘。 
4.13 等離子體具有實時全彩色攝像系統(tǒng)，操作者在儀器的控制軟件中可以實時全彩色看到等離子體的運行圖形，并觀察炬管、炬管中心管是否變臟需要清洗。  
5．光學系統(tǒng)和檢測器 
5.1光學穩(wěn)定性：光學系統(tǒng)密閉并可以進行吹掃，與進樣系統(tǒng)設(shè)計在一個平臺上，整個光學系統(tǒng)具有防震措施，一般的地面震動不影響其分析性能。 
5.2系統(tǒng)類型：高性能二維(交叉)色散中階梯光柵(棱鏡)，波長范圍：160-900nm，具有3萬條以上的譜線庫，每條譜線至少可以選擇30個象素點進行測量。對于常見元素Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn，軟件的默認*譜線不少于5條。 
5.3光路設(shè)計簡單、可靠，中階梯光柵的閃耀角在60度以上，中階梯光柵刻線密度在60條/mm以上。 5.4 焦距200 mm－650mm。 
5.5 檢測器必須是專門設(shè)計用于ICP-OES分析的固態(tài)檢測器，且無紫外線轉(zhuǎn)換熒光涂層，無老化問題。 
5.6低紫外 (<190nm) 譜線可以采用氮或氬氣吹掃，吹掃的氣體流量由軟件控制，并具有正常吹掃和高流量吹掃兩種模式可選。 
5.7內(nèi)建氖燈自動進行波長校正，每一條譜線在使用前都不需要用標準溶液進行譜線定位。儀器在*關(guān)機的情況下開機，兩分鐘之內(nèi)即可進行分析測試投入運行，無需長時間的預(yù)熱。 
5.8 在光學設(shè)計上強光和弱光測量不能采用同樣的積分時間，以避免檢測器的損壞，表現(xiàn)在儀器的軟件上為積分時間自動確定，隨樣品中元素含量的不同而自動變化，無需人工設(shè)置積分時間。  
6．分析軟件：  
6.1軟件操作方便、直觀，具有定性、半定量、定量分析功能，軟件為全中文多任務(wù)操作，即在分析樣品的同時，能同時進行數(shù)據(jù)處理，并處理和打印全中文報告。控制軟件可以在中文版Windows XP下運行，可以脫離儀器安裝在其它計算機上進行模擬運行（模擬等離子體點火、熄火、樣品分析），同時模擬軟件具有數(shù)據(jù)處理功能，以便于教學、演示和培訓(xùn)。 
6.2具有元素間干擾校正技術(shù)、譜線擬合干擾校正技術(shù)和實時背景扣除功能等不少于3種干擾校正技術(shù)。 
6.3每一條譜線的積分時間都可以自動優(yōu)化，無需使用者進行估計，軟件會根據(jù)樣品中元素的含量自動進行選擇。 
6.4軟件設(shè)計全面符合電子簽名管理的21 CFR Part 11管理法規(guī)； 
6.5全自動安全保護功能，儀器通訊和控制采用GPIB控制卡，軸向、側(cè)向觀測位
置由軟件控制自動優(yōu)化。具有控制蠕動泵進行智能清洗的功能。 6.6全面控制流動注射分析系統(tǒng)（FIMS），其分析汞的檢出限優(yōu)于0.01ppb。 6.7具有氫化物發(fā)生ICP-OES分析功能。 
6.8支持高效液相色譜（HPLC）與ICP-OES聯(lián)用進行形態(tài)分析。 
6.9具有顯示二維中階梯光譜圖的功能，并顯示分析譜線在光譜圖中的位置，所顯示的二維光譜圖必須與中階梯分光所產(chǎn)生的二維圖形*匹配。具有半定量分析功能，即無需分析標準溶液，即可直接獲得樣品中超過50個元素的濃度半定量結(jié)果。 
6.10具有在主軟件運行時同時運行離線數(shù)據(jù)處理（Offline）的功能。數(shù)據(jù)檔案管理功能，支持數(shù)據(jù)的備份、恢復(fù)、刪除，支持數(shù)據(jù)的文本格式輸出。具有與LabWorks LIMS無縫連接的功能，并具有與國產(chǎn)LIMS連接的接口。
特點：
平板等離子體技術(shù) - 氬氣消耗只有螺旋負載線圈系統(tǒng)的一半，即可形成同樣強健、同樣耐高鹽基體的等離子體。
eNeb - 為 ICP-OES 提供*的信號、穩(wěn)定性和檢出限。
可調(diào)節(jié)的一體化炬管組件 - 便于輕松優(yōu)化性能，即使是對于zui難的樣品也可如此，同時維護簡單。
的雙向觀測 - 提供徑向和軸向觀測等離子體的方式，可使用同一方法有效地測量高濃度和低濃度的元素。
切割氣系統(tǒng) - 去除等離子體的冷尾焰，以消除干擾和zui小化電離抑制劑的需要。無需清潔接口錐，也無需使用氣體流量*的抽風系統(tǒng)，使用切割氣免維護，可優(yōu)化軸向觀測的性能。
用于 ICP 的 WinLab32 軟件 - 提供分析樣品、報告和存儲歸檔數(shù)據(jù)的所有工具，采用可選的增強型安全包，確保法規(guī)的符合性。
PlasmaCam - 可連續(xù)觀測等離子體，實現(xiàn)更簡單的方法建立和遠程診斷功能。
兩個 SCD 檢測器 - 在整個波長范圍內(nèi)提供高分辨率，從而減少干擾、提高準確性、以及提供真正的實時數(shù)據(jù)采集 (Optima 8300)。
自動取樣器 - 提供兼容型號(包括 PerkinElmer S10)選擇和其他各種樣品導(dǎo)入系統(tǒng)選件，優(yōu)化工作效率。
【技術(shù)特點對用戶帶來的好處】-- Optima 8000 等離子體發(fā)射儀
環(huán)境
Optima? 8x00 系列易于使用，具有的處理量和檢出限，有助于zui大程度提高效率和收益率。
? 內(nèi)置環(huán)境方法，便于快速啟動
? 雙向觀測 功能允許在同一分析中進行高濃度和低濃度的測量，提高效率
? 一體化炬管組件 - 免維護，操作簡單
? eNeb? 提供 2 到 4 倍的檢出限改進，可更輕松地滿足法規(guī)要求。
地質(zhì)化學
Optima 8x00 系列用于提供可再現(xiàn)的準確性，即使面對復(fù)雜的基體也是如此，可在提供*的性能的同時不影響樣品處理量。
? Flat Plate? 等離子體技術(shù)降低操作和維護費用。
? WinLab32? 多譜線擬合 - 實現(xiàn)優(yōu)異的干擾校正，獲取更準確的結(jié)果。
? 同步數(shù)據(jù)采集，實現(xiàn)zui大樣品處理量。
制藥/保健食品
擁有ICP-OES中的zui低檢出限和一整套的增強型數(shù)據(jù)安全功能，Optima 8x00系列可輕松滿足嚴格的監(jiān)管要求。
? *符合USP 232/233所要求的所有元素的檢測規(guī)范。
? 具有 ICP Enhanced Security?的WinLab32，符合 CFR Part 11 規(guī)定。
? eNeb 提供了 2 到 4 倍的檢出限改進，以符合不斷變化的法規(guī)要求。
食品/產(chǎn)品安全
通過一系列的革新技術(shù)，Optima 8x00 系統(tǒng)可為各種樣品類型和基體的處理提供*的靈活性。
? 平板等離子體技術(shù)可增強許多不同基體的穩(wěn)定性及耐受性。
? PlasmaCam? 有助于建立方法和提高效率。
? 用于 ICP 軟件的 WinLab32 軟件提供快速的方法建立。
【典型應(yīng)用舉例】-- Optima 8000 等離子體發(fā)射儀
環(huán)境監(jiān)測
地質(zhì)化學
制藥/保健食品
食品/產(chǎn)品安全