微波等離子去膠機(jī)
- 公司名稱 北京匯德信科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 德國
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2016/9/27 15:19:17
- 訪問次數(shù) 489
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分子束外延系統(tǒng),脈沖激光沉積系統(tǒng),電子束光刻/聚焦離子束系統(tǒng),紫外光刻機(jī),去膠機(jī),寬頻介電阻抗譜儀,三維表面形貌儀,納米壓印模板,光刻膠等
去膠工藝是微加工實(shí)驗(yàn)中一個(gè)非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后,都需要對(duì)光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈*、對(duì)樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續(xù)工藝的順利完成。德國ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經(jīng)驗(yàn),致力于給您提供專業(yè)的微波等離子去膠機(jī),并提供專業(yè)的服務(wù)。
桌面式微波等離子去膠機(jī) 立式
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
- 去膠快速*
- 對(duì)樣片無損傷
- 操作簡(jiǎn)單安全
- 設(shè)計(jì)緊湊美觀
- 產(chǎn)品性價(jià)比高
產(chǎn)品用途:
- 高劑量離子注入光刻膠的去除
- 濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
- MEMS中犧牲層的去除
- 去除化學(xué)殘余物
- 清除浮渣工藝
SU-8膠的去除:
MEMS工藝中經(jīng)常用到SU8光刻膠,然而SU8非常穩(wěn)定,其zui致命的缺點(diǎn)就是去膠困難。為了解決SU-8光刻膠的去膠問題,我們向您*德國Alpha Plasma專業(yè)的SU-8,該設(shè)備采用氟基氣體的去膠工藝,利用氟基氣體與SU-8膠的化學(xué)反應(yīng),實(shí)現(xiàn)快速去除SU-8功能。同時(shí)設(shè)備中還集成了溫控系統(tǒng),去膠過程中對(duì)襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結(jié)構(gòu)的完整性,zui終實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量MEMS器件的制備。SU-8去膠速率驗(yàn)收指標(biāo)為1μm/min,實(shí)驗(yàn)中可達(dá)到幾個(gè)微米。因此這款專業(yè)的SU8去膠機(jī)是MEMS去膠工藝的理想選擇。
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