GD90輝光放電質譜儀

Autoconcept GD90是一個專為高精度元素分析所設計的高分辨輝光放電質譜儀。此輝光放電質譜儀（GDMS）提供了固體金屬與緣體的直接分析檢測。它具有非常寬的元素覆蓋范圍，可得到超過70種元素的有效數據，靈敏度高，輕元素重元素均可。

    GDMS技術使原子化（碎片化）過程與離子化過程分開進行，故而可容易的對ppb至ppt級別的痕量雜質進行測量。此法還使得GDMS技術擁有 小的基體效應且無須特定參照材料。它可對金屬與合金進行全掃描分析，可對半導體進行整體的測量分析，可對多層結構與鍍層進行深度剖析。是包括金屬、合金、半導體以及緣體（須配RF源）等高純材料的生產與質量控制的理想工具。

GD90輝光放電質譜儀的主要特性：

·高分辨率，特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要。

·廣泛的元素涵蓋范圍，軟件中包括70個元素相關的干擾離子數據。

·由于原子化和離子化過程發生在不同區域，帶來可忽略的基體效應。

·低至亞ppb級的定量數據。

·具有深度剖面同位素比值分析能力。

· 少的樣品制備過程。

應用領域：

輝光放電質譜儀--AUTOCONCEPT GD90              

半導體：

幾乎所有的電子、光學與光電設備都需要高純度半導體。此類半導體的電學性質依賴于其中的雜質成分。此類材料只有達到低的雜質水平才能保證終端產品（例如微處理器與微型器件）的性能。

GDMS有助于半導體的整體調查分析，可對雜質進行定量鑒定，可達到痕量與超痕量水平。

核能：

在核技術與核研究中，科研人員對同位素比例進行精準的測量有著極大的興趣。被廣泛接受的方法是熱電離質譜(TIMS)。在此方法中，樣品必須被溶解，需要在分析前對感興趣的分析物進行化學分離。

GDMS同樣被用于含核材料樣品的同位素鑒定。通過對比，GDMS被證明是在精準度要求的前提下對B，Li以及U同位素豐度鑒定的優勢性技術。GDMS有著減少樣品制備過程的優勢。

高純度金屬:

在金屬與合金的大批量生產過程中，痕量雜質的總量不易控制。但為了控制其力學、化學、電學與其他高級性質，受控添加痕量元素以及提純過程都是減少材料雜質含量所需要的。

GDMS有助于成品中雜質的檢出與鑒定，以確保由此金屬制成的系統的質量與性能。

合金

合金與超合金試生產高性能機械-例如渦輪機-的關鍵材料。由于此類機械通常在高溫高壓下運行，即使痕量元素成分發生輕微變化都有可能導致災難性后果。

GDMS在鑒定產品的元素組成上非常理想，用以保證機械系統的 優化性能。

輝光放電質譜法作為一種固體樣品的直接分析方法，被認為是目前為止*的同時具有 廣泛的分析元素范圍和足夠靈敏度的元素分析方法，已成為固體材料多元素分析尤其是高純材料分析的強有力的工具。直接對固體進行分析避免了將固體轉化成溶液時因在溶解、稀釋等過程中造成的玷污和靈敏度降低，而且該方法對樣品的分析面積大，所得數據結果有好的代表性。

優勢分析應用領域： 

 金屬及合金材料

包括高純金屬，濺射靶材，稀貴金屬，超級合金等材料的痕量雜質的半定量和定量分析，同時可分析C、N、O等輕元素。 

 半導體材料

包括硅片，CdTe，GaAs及其他多種高純電子材料的雜質分析。 

 無機非金屬材料

包括陶瓷粉末，玻璃，稀土氧化物等材料分析。 

薄層分析，深度分布剖面分析等