光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
儀器簡介:
MIDAS為勻膠機(又稱為旋涂儀、甩膠機、Spin Coater等)的國際品牌,目前全球用戶超過1800臺,在高校、研究所及半導體產業享有很高的聲譽,高性價比。
勻膠機有許多名稱:甩膠機、涂膠機、涂層機、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂膜儀等, 主要應用于溶膠凝膠(Sol-Gel)實驗中的薄膜制作。其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。
適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業、科研、教育等單位作生產、科研、教學之用。
馬達的皮實耐用性能及高速旋轉時轉速的穩定性和均勻性是進口設備和國產設備的區別!!
此型號在國內高校研究單位被廣泛使用,是進口設備中性能價格比最高的型號,到貨期短(一般2周到貨),使用簡單(用戶均可自行安裝操作),維修快捷,3年內正常使用不會出問題。
技術參數:
時間 Time : 1~999秒,可調節
基底尺寸 Substrate Size: ~ 4英寸/~6英寸/~8英寸可選擇
卡盤旋轉速度 Chuck Rotation Speed : 300~8000 rpm,直流伺服馬達/交流伺服馬達
勻膠狀態 Spin State: 50步,20個方案控制(數字程序編輯)
面板數字式編程,液晶顯示,操作方便
碗腔尺寸 Bowl Size: 8英寸,鋁(經陽極氧化工藝)/12英寸,SUS
增/減速率 Accele/deceleration Rates: 可調節
真空卡盤 Vacuum Chuck : 鋁(陽極氧化),乙縮醛(Acetal)
電源 Electrical Power : 220V, 5A
自帶無油真空泵 Oilless Vacuum Pump: - 650 mmHg
尺寸(mm) Dimension: 230 X 340 X 260 / 390 X 570 X 280
主要特點:
1) 桌上型,涂膜厚度范圍:100nm~100um;
2) 可用于光刻膠(PR),聚酰亞胺(Polyimide),金屬有機物(Metallo-organics),攙雜劑(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多數的有機溶液、水溶液;
3) 緊湊型設計,用戶編輯、控制、存儲、取出涂膠程序,易于操作;
4) 加速及減速速率基于設定的時間/轉速(Ramp Time/RPM value)自動計算;
5) 用戶通過前面板顯示屏和按鈕進行編輯、控制、存儲、取出涂膠程序,并進行實驗操作。