隨著納米技術(shù)的發(fā)展，超臨界流體技術(shù)因其*的優(yōu)勢在超細顆粒制備的應用也越來越廣泛，如催化劑，磁性材料，精細陶瓷，緩釋藥物等。ASI Helix超臨界微粒制備儀專注于超細顆粒制備，其微粒粒徑小且分布窄，微粒的大小和外觀可通過操作參數(shù)進行調(diào)節(jié)，結(jié)晶微粒無有機溶劑殘留的優(yōu)點。

ASI Helix超臨界微粒制備儀主要技術(shù)參數(shù)：  

*同一系統(tǒng)可實現(xiàn)超臨界流體超細微粒制備的三種方式： 超臨界溶劑快速膨脹方法（RESS），圧縮流體抗溶劑沉淀方法（PCA），超臨界抗溶劑方法（GAS）

*高操作溫度可達 250℃  

*高操作壓力可達 10,000 psi  (680bar)

*高流量 50L/min （氣體），400ml/min（液態(tài)）

*可選配分離模塊

*模塊化的設(shè)計，可方便的進行系統(tǒng)調(diào)整

*萃取釜承壓為 30,000  psi，萃取體積：5ml至4000ml可選，可根據(jù)用戶需求進行定制。

*可添加夾帶劑 (夾帶劑泵的壓力為10,000  psi）

*觸摸屏電腦控制，人性化的操作界面

*微粒的粒徑小且分布窄（可達納米級）

*微粒的大小和外觀可通過控制操作參數(shù)進行調(diào)整

*結(jié)晶微粒無溶劑殘留  

*干燥氣凝膠

*可選配攪拌功能

*可選配液體逆流萃取  

*可選配PSE（壓力溶劑萃取）包  

*三重過壓安全保護裝置及經(jīng)濟壓力釋放裝置