掃描電鏡液體電化學(xué)原位系統(tǒng)
- 公司名稱(chēng) 廈門(mén)超新芯科技有限公司
- 品牌 CHIPNOVA
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/12/27 9:40:16
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 8136
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液體體積 | 納升至皮升級(jí) |
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我們的優(yōu)勢(shì)
高分辨率
MEMS微加工工藝,使電化學(xué)芯片視窗區(qū)域的氮化硅膜厚度最薄可達(dá)10nm,極大減少了對(duì)電子束的干擾,液相環(huán)境可達(dá)到納米級(jí)分辨率。
高安全性
1.市面常見(jiàn)的其他品牌液體樣品桿,由于受自身液體池芯片設(shè)計(jì)方案制約,只能通過(guò)液體泵產(chǎn)生的巨大壓力推動(dòng)大流量液體流經(jīng)樣品臺(tái)及芯片外圍區(qū)域,有液體大量泄露的安全隱患。其液體主要靠擴(kuò)散效應(yīng)進(jìn)入芯片中間的納米孔道,芯片觀察窗里并無(wú)真實(shí)流量流速控制。
2.采用納流控技術(shù),通過(guò)壓電微控系統(tǒng)進(jìn)行流體微分控制,實(shí)現(xiàn)納升級(jí)微量流體輸送,原位納流控系統(tǒng)及樣品桿中冗余的液體量?jī)H有微升級(jí)別,有效保證電鏡安全。
3.采用高分子膜面接觸密封技術(shù),相比于o圈密封,增大了密封接觸面積,有效減小滲漏風(fēng)險(xiǎn)。
4.采用超高溫鍍膜技術(shù),芯片視窗區(qū)域的氮化硅膜具有耐高溫低應(yīng)力耐壓耐腐蝕耐輻照等優(yōu)點(diǎn)。
多場(chǎng)耦合技術(shù)
可在液相環(huán)境中實(shí)現(xiàn)光、電、熱、流體多場(chǎng)耦合。
智能化軟件和自動(dòng)化設(shè)備
1.人機(jī)分離,軟件遠(yuǎn)程控制實(shí)驗(yàn)條件,全程自動(dòng)記錄實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)數(shù)據(jù),便于總結(jié)與回顧。
2.全流程配備精密自動(dòng)化設(shè)備,協(xié)助人工操作,提高實(shí)驗(yàn)效率。
團(tuán)隊(duì)優(yōu)勢(shì)
1.團(tuán)隊(duì)帶頭人在原位液相發(fā)展初期即參與研發(fā)并完善該方法。
2.獨(dú)立設(shè)計(jì)原位芯片,掌握芯片核心工藝,擁有多項(xiàng)芯片patent。
3.團(tuán)隊(duì)20余人從事原位液相研究,可提供多個(gè)研究方向的原位實(shí)驗(yàn)技術(shù)支持。
技術(shù)參數(shù)
類(lèi)別 | 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
基本參數(shù) | 臺(tái)體材質(zhì) | 高強(qiáng)度鈦合金 |
液層厚度 | 納米至微米(可定制) | |
氮化硅膜 | 10nm,20nm,50nm(可定制) | |
液體體積 | 納升至皮升級(jí) |
應(yīng)用案例
Electrochemical dissolution
Electrochemical deposition