進口高真空離子濺射儀針對絕大多數掃描電鏡應用，高真空模式或高分辨模式，要求樣品必須導電良好，否則樣品表面荷電造成圖像缺陷和分辨率惡化。在非導電絕緣材料表面制備1-10nm金屬導電膜層是常用的樣品處理手段，可采用離子濺射鍍膜法或熱蒸發鍍膜法，前者更為方便，使用更為廣泛，離子濺射儀在很多情況下是掃描電子顯微鏡實驗室標配。

進口高真空離子濺射儀，采用磁控濺射方式，獲得超級精細膜層，廣泛用場發射掃描電鏡超高分辨觀察，或透射電鏡樣品制備碳支持膜，可用于其他高質量鍍膜實驗研究。采用陽極保護柵網，實現鍍膜過程中樣品表面保持常溫狀態，沒有熱損傷。該濺射儀具有樣品等離子清洗刻蝕功能，可選配蒸碳附件。

主要功能：

1、精細、超精細離子濺射導電膜制備；專業級金屬膜層試驗。

2、樣品等離子刻蝕清洗

3、蒸碳鍍膜

主要特點：

1、磁控濺射速度快。對于掃描電鏡或透射電鏡制樣，抽真空-濺射-泄真空3分鐘完成。

2、鍍膜質量更高，可獲得精細晶粒膜層，膜層結合力強度高?？墒褂媒Y晶更細小的金屬靶材。

3、對樣品無熱損傷的冷濺射。

4、樣品等離子刻蝕功能，一個手動控制擋板降低樣片在刻蝕過程中受到的污染。

5、基于PLC的強大控制系統，全部觸摸屏操作，可手動、半自動控制、全自動控制。

6、真空高壓互鎖安全機制

7、標準的操作軟件，實時監控各部件狀態，方便技術支持，節約用戶費用。

性能指標：

標準配置

樣品室：      φ150mm X 150mm(H) 不銹鋼真空室，帶觀察窗

靶：          金GOLD或金鈀合金GOLD/PALLADIUM（隨機）φ50mmX0.1mm

樣品臺：      φ50mm 旋轉樣品臺

濺射電流：    0-100mA

真空規：      皮拉尼+熱電偶

濺射氣體：    氬氣

真空泵：      85L/Min 機械泵

             Pfeiffer 70 lps渦輪分子泵

             15分鐘抽到5E-6Pa 極限真空。獲得超高真空環境，提高鍍膜質量

選配

膜厚監控：    石英晶體膜厚監控器

樣品臺：      φ75mm 旋轉樣品臺

             φ100mm旋轉樣品臺（選此臺，膜厚監控器無法安裝）

             旋轉傾斜樣品臺 （選擇此臺，無法實現樣品刻蝕功能）

蒸碳附件：    碳棒或碳絲繩