EVG^®720

Automated SmartNIL^® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®720   自動化SmartNIL®UV納米壓印光刻系統

具有EVG專有的SmartNIL®技術的自動全場UV納米壓印解決方案（大150毫米）

技術數據

EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構，具有的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流體和光子器件，例如衍射光學元件（ DOEs）。  *分辨率取決于過程和模板

特征

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

專有的SmartNIL®技術和多次使用的聚合物印模技術

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動R＆D模式

可選的頂部對齊

可選的迷你環境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發到生產的可擴展性

系統外殼，可實現佳過程穩定性和可靠性

EVG720技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）75至150毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm²

對準：可選的頂部對齊

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持