非標定制 化學氣相沉積LPCVD
- 公司名稱 鵬城半導體技術（深圳）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 非標定制
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2023/11/1 15:11:12
- 訪問次數 282
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鵬城半導體技術（深圳）有限公司(簡稱：鵬城半導體），由哈爾濱工業大學（深圳）與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術前沿與市場前沿的交叉點，尋求創新yin/ling與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。
公司核心業務是微納技術與gao duan精密制造，具體應用領域包括半導體材料、半導體工藝和半導體裝備的研發設計和生產制造。
公司人才團隊知識結構完整，有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊；還有來自工業界的高級裝備設計師團隊，他們具有20多年的半導體材料研究、外延技術研究和半導體薄膜制備成套裝備設計、生產制造的經驗。
公司依托于哈爾濱工業大學（深圳），具備*的半導體研發設備平臺和檢測設備平臺，可以在高起點開展科研工作。公司總部位于深圳市，具備半導體裝備的研發、生產、調試以及半導體材料與器件的中試、生產、銷售的能力。
半導體材料,工藝和裝備的研發設計,生產制造
化學氣相沉積LPCVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）?？捎糜诳茖W研究、實踐教學、小型器件制造。
設備結構及特點
1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本
兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。
基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。
基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4英寸標準基片。
2、設備為水平管臥式結構
由石英管反應室、隔熱罩爐體柜、電氣控制系統、真空系統、氣路系統、溫控系統、壓力控制系統及氣瓶柜等系統組成。
反應室由高純石英制成，耐腐蝕、抗污染、漏率小、適合于高溫使用; 設備電控部分采用了*的檢測和控制系統，量值準確，性能穩定、可靠。
設備主要技術指標
| 類型 | 參數 |
|---|---|
| 成膜類型 | Si3N4、Poly-Si、SiO2等 |
| 溫度 | 1200℃ |
| 恒溫區長度 | 根據用戶需要配置 |
| 恒溫區控溫精度 | ≤±0.5℃ |
| 工作壓強范圍 | 13～1330Pa |
| 膜層不均勻性 | ≤±5％ |
| 基片每次裝載數量 | 標準基片:1～3片;不規則尺寸散片:若干 |
| 壓力控制 | 閉環充氣式控制 |
| 裝片方式 | 手動進出樣品 |
化學氣相沉積LPCVD-生產型
設備功能
該設備是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。
可提供相關鍍膜工藝。
設備結構及特點：
設備為水平管臥式結構，由石英管反應室、隔熱罩爐體柜、電氣控制系統、真空系統、氣路系統、溫控系統、壓力控制系統及氣瓶柜等系統組成。
反應室由高純石英制成，耐腐蝕、抗污染、漏率小、適合于高溫使用;
整個工藝過程由計算機對全部工藝流程進行管理，實現爐溫、氣體流量、壓力、閥門動作、泵的啟閉等工藝參數進行監測和自動控制。也可以手動控制。
設備主要技術指標
| 類型 | 參數 |
|---|---|
| 成膜類型 | Si3N4、Poly-Si、SiO2等 |
| 溫度 | 1200℃ |
| 恒溫區長度 | 根據用戶需要配置 |
| 恒溫區控溫精度 | ≤±0.5℃ |
| 工作壓強范圍 | 13～1330Pa |
| 膜層不均勻性 | ≤±5％ |
| 基片每次裝載數量 | 100片 |
| 設備總功率 | 16kW |
| 冷卻水用量 | 2m3/h |
| 壓力控制 | 閉環充氣式控制 |
| 裝片方式 | 懸臂舟自動送樣 |
LPCVD軟件控制界面
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