批量式電漿輔助氣相沉積設備
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/7/10 13:47:00
- 訪問次數(shù) 551
產(chǎn)品標簽
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應用領域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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批量式電漿輔助氣相沉積設備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。
此系統(tǒng)為專對派瑞林(Parylene)所設計,其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性,並批量式生產(chǎn)。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。
批量式電漿輔助氣相沉積設備參數(shù):
應用領域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點 | 選件 |
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