關鍵特征

● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應系統可實現較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應；

● 可用于氣-固相光催化、液固相光催化反應的微分式和積分式光化學反應；

● 氣體流速可三路獨立控制，使用超厚石英光窗，可用于全光譜范圍內的光化學反應；

● 具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制，三路進氣可分別控制。

應用領域

▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲ 光降解液體污染物（如染料、苯及苯系物等）        ▲ 光催化CO₂還原

▲ 其他高溫高壓（光）化學反應        

● 光催化分解水制氫/氧                   ● 光催化全分解水                                

● 光降解氣體污染物（如VOCs 、甲醛、氮氧化物、硫氧化物等）                                             

○ 光催化量子效率測量                    ○光合成                 ○ PEC光電化學

技術參數

● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應系統反應溫度 :室溫+10~300 ℃ (可達380℃);

● 反應壓力:1~10 MPa;

● 反應容積:50 mL（可定制25、100 mL）;

● 氣路數量:3路;

● 氣體總流量:1~60 mL/min;

● 具有安全泄壓閥:7 MPa（可調節）；反應體系溫度、壓力儀表顯示;

● 獨立高壓氣體混勻室 :1 L，保證氣體在實驗中的連續長時間供應；具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制，三路進氣可分別控制;

● 末端電子皂膜流量計，用于氣體流量監測（10~60 mL/min寬范圍調節）;

● 整體安全一體式防護箱設計，保證了實驗的安全性;