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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>納米壓印設備>Dymek岱美儀器EVG620 NT 掩模對準光刻機系統

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Dymek岱美儀器EVG620 NT 掩模對準光刻機系統

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岱美儀器技術服務(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經驗的高科技設備分銷商,主要為數據存儲、半導體、光通訊、高校及研發中心提供各類測量設備、工序設備以及相應的技術支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關系。自1989年創立至今,岱美的產品以及各類服務、解決方案廣泛地運用于中國香港,中國大陸(上海、東莞、北京),中國臺灣,泰國,菲律賓,馬來西亞,越南及新加坡等地區。


岱美在中國大陸地區主要銷售或提供技術支持的產品:

晶圓鍵合機、納米壓印設備、紫外光刻機、涂膠顯影機、硅片清洗機、超薄晶圓處理設備、光學三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學三坐標測量儀、薄膜厚度檢測儀、主動及被動式防震臺系統、應力檢測儀、電容式位移傳感器、定心儀等。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,請聯系我們,了解我們如何開始與您之間的合作,實現您的企業或者組織機構長期發展的目標。




膜厚儀,輪廓儀,EVG鍵合機,EVG光刻機,HERZ隔震臺,Microsense電容式位移傳感器

一、產品特色

      EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在蕞小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

二、技術數據

      EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在蕞小的占位面積上結合了優良的對準功能和蕞優化的總體擁有成本,提供了優于其他品牌的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持,使它成為任何制造環境的理想解決方案。

      EVG620 NT或容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能,可在各種應用中實現出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導體)進行加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

三、光刻機特征

      晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6''

      系統設計支持光刻工藝的多功能性

      易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短

      帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

      自動原點功能,用于對準鍵的精確居中

      具有實時偏移校正功能的動態對準功能

      支持最新的UV-LED技術

      返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統

      自動化系統上的手動基板裝載功能

      可以從半自動版本升級到全自動版本

      蕞小化系統占地面積和設施要求

      多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

      優良的軟件功能以及研發與全 面生產之間的兼容性

      便捷處理和轉換重組

      遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

四、附加功能

      鍵對準

      紅外對準

      納米壓印光刻(NIL)

五、EVG620 NT技術數據

1)曝光源:

      汞光源/紫外線LED光源

2)優良的對準功能:

      手動對準/原位對準驗證

3)自動對準:

      動態對準/自動邊緣對準

      對準偏移校正算法

4)EVG620 NT產能:

      全自動:第 一批生產量:每小時180片

      全自動:吞吐量對準:每小時140片晶圓

      晶圓直徑(基板尺寸):高達150毫米

5)對準方式:

      上側對準:≤±0.5 µm

      底側對準:≤±1,0 µm

      紅外校準:≤±2,0 µm /具體取決于基材

      鍵對準:≤±2,0 µm

      NIL對準:≤±3.0 µm

6)曝光設定:

      真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

7)楔形補償:

      全自動軟件控制

8)曝光選項:

      間隔曝光/洪水曝光/扇區曝光

六、系統控制

1)操作系統:

      Windows

2)文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

3)多語言用戶GUI和支持:

      CN,DE,FR,IT,JP,KR

4)實時遠程訪問,診斷和故障排除

5)工業自動化功能:

      盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

6)納米壓印光刻技術:SmartNIL ®





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