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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>離子濺射儀> VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

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VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

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  沈陽科晶立足國內市場實際情況,以提供Z為實用的產品為己任。產品的質量、精度在向國外企業看齊的基礎上,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業實驗室,配備了優秀的專業技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環境,而且還可得到專業人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

 

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產地類別 國產 價格區間 面議
應用領域 綜合

IMG_256VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導磁材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。IMG_2591、可選一個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
3、體積小,操作簡便。IMG_261

產品名稱

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-1HD

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要

主要參數

1、電源電壓:220V  50Hz
2、功率:<1KW(不含真空泵)
3、腔體內徑:?300mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)
6、靶槍數量:1個(可選配其他數量)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源)
10、載樣臺:?140mm,可根據客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現更高質量的鍍膜。
11、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調
12、工作氣體:Ar等惰性氣體
13、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。

產品規格

1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、重量:160kg
4、真空室規格:φ300×300mm

標準配件

1、直流電源控制系統1套(可選)
2、射頻電源控制系統1套(可選)
3、冷水機1臺
4、聚酯PU管(?6mm)4m

可選配件

1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
2、膜厚監測儀系統
3、分子泵(德國進口或者國產更大抽速)

 




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