無掩膜激光直寫光刻機-MicroWriter ML3

具體成交價以合同協議為準

產品標簽

直寫光刻機無掩膜光刻機光刻機

在線交流發送詢價查看電話同類產品

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息，謝謝!

公司介紹 主營產品

昱臣半導體技術（香港）有限公司是專業的半導體及微電子領域儀器設備供應商，昱臣半導體技術（香港）有限公司所代理的儀器設備廣泛用于高校、研究所、半導體企業。

昱臣半導體技術（香港）有限公司目前代理的主要產品包括：

- 霍爾效應測試儀(Hall Effect Measurement System)；

- 快速退火爐(RTP)；

- 回流焊爐，真空燒結爐(Reflow Solder System)；

- 探針臺(Probe Station)，低溫探針臺(Cryogenic Probe Station)；

- 貼片機(Die Bonder)，劃片機(Scriber)，球焊機/鍥焊機(Wire Bonder)；

- 原子層沉積系統(ALD)，等離子增強原子層沉積設備(PEALD)；

- 磁控濺射鍍膜機(Sputter)，電子束蒸發鍍膜機(E-beam Evaporator)，熱蒸發鍍膜機(Thermal Evaporator)，脈沖激光沉積系統(PLD) ;

- 低壓化學氣相沉積系統(LPCVD)，等離子增強化學氣相沉積系統(PECVD)，快速熱化學氣相沉積系統(RTCVD)；

- 反應離子刻蝕機(RIE)，ICP刻蝕機，等離子體刻蝕機；

- 致冷機/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler)；

- 加熱臺、熱板、烤膠臺 (Hot Chuck / Hot Plate)；

- 掃描開爾文探針系統(Kelvin Probe)，光反射膜厚儀(Reflectometer)；

- 高溫超導磁體(HTS Magnet)，快速場循環核磁共振弛豫測試儀(FFC Reflexometer)；

展開

原子層沉積系統，快速退火爐，PECVD，刻蝕機

小型臺式無掩膜光刻機- MA1200

小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設計開發，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

產品特點

Focus Lock自動對焦功能 Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，并通過Z向調整和補償，以保證曝光分辨率。	光學輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

標記物自動識別點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。	直寫前預檢查軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫準確。

簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。	Clewin 掩膜圖形設計軟件 ● 可以讀取多種圖形設計文件（DXF, CIF, GDSII, 等） ● 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 ● 書寫范圍只由基片尺寸決定