EI系列 Batch式高真空蒸發設備
- 公司名稱 艾博納微納米科技（江蘇）有限責任公司
- 品牌 ABNER/艾博納
- 型號 EI系列
- 產地 江蘇省淮安市清江浦區清浦工業園枚皋路7號
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/10/29 9:33:22
- 訪問次數 233
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| 供貨周期 | 一個月以上 | 應用領域 | 化工,能源,電子,冶金,電氣 |
|---|---|---|---|
| 主要用途 | 用于在基板上形成金屬膜或氧化物膜 |
Batch式高真空蒸發設備 EI 系列是一種專門用于在基板上形成金屬膜或氧化物膜的設備。該設備具有以下顯著特點和優勢：
高真空環境：EI 系列設備能夠提供高真空環境，確保蒸發過程中的膜層質量。高真空條件下，雜質含量減少，膜層純凈度更高，適用于高精度的研究開發以及少量生產。
多種材料蒸發：該設備可以蒸發多種材料，包括金屬、ITO（銦錫氧化物）以及二氧化硅等。這使得EI系列設備在不同應用領域中具有廣泛的適用性，從電子元件到光學元件的制造，都可以輕松應對。
集中控制：通過操作面板進行集中控制，實現了抽真空、成膜等作業內容的集中自動化操作。操作界面友好，易于設置和調整工藝參數，提高了工作效率和操作的便捷性。
適用于研究開發及少量生產：EI 系列設備特別適合于實驗室研究開發和少量生產需求。其靈活的工藝參數調整能力和高質量的成膜效果，使其在新材料研究和工藝開發中成為理想選擇。
蒸發材料
金屬：EI 系列設備能夠蒸發多種金屬，如鋁、銅、金、銀等，用于制造高導電性和高反射率的金屬膜。這些金屬膜廣泛應用于電子、光學和裝飾性領域。
ITO（Indium Tin Oxide）：ITO 膜具有優異的導電性和透明性，廣泛用于制造透明導電膜，如觸摸屏、液晶顯示器和太陽能電池。EI 系列設備能夠精確控制ITO 膜的厚度和均勻性，確保其優良的電學和光學性能。
二氧化硅（SiO2）：二氧化硅膜常用于制造絕緣層和光學鍍膜。EI 系列設備在蒸發SiO2 方面具有高穩定性，能夠形成均勻、致密的膜層，適用于半導體和光學元件的制造。
應用場景
電子行業：在電子元件制造中，EI 系列設備可以用于制造各種金屬連接膜和透明導電膜，提升元件性能和可靠性。
光學行業：在光學元件制造中，該設備可以蒸發高質量的二氧化硅膜和金屬反射膜，增強光學性能和耐用性。
研究開發：在新材料和新工藝的研究開發中，EI 系列設備提供了高度的靈活性和精確控制，是科研人員的理想工具。
Batch式高真空蒸發設備 EI 系列憑借其高性能、多功能性和易操作性，成為科研和生產中的重要設備。無論是新材料研究還是少量生產需求，該設備都能提供可靠的解決方案。
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