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等離子蝕刻機Etchlab 200

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數碼光學顯微鏡及相關實驗室設備研發與銷售的新型高科技公司,也專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器,以專業能力導向,精細工藝流程,用科學手段解決科研中遇到的難題.彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

公司主要產品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數碼顯微鏡、顯微鏡數碼相機照相接口、顯微鏡*冷光源、數碼圖像分析系統、測量顯微鏡、三座標測量顯微鏡,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機

公司經銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產品

代理經銷的產品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統,激光捕獲顯微切割,全自動切片掃描,三維超景深顯微系統,動物超聲系統,3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動數字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統,立體顯微鏡,國產激光共聚焦顯微鏡,精準醫學顯微切割,激光顯微切割系統,按需搭建顯微系統,熒光光譜儀,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發展,合作共贏"的企業宗旨,快樂中結識新朋友,穩步中追求新發展。目前公司已經擁有一支由專業技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術咨詢、產品配套、安裝調試、應用指導、維護保養在內的整套細致入微的服務。同時公司還依托中國地質研究院、清華大學、中國農業大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術支持。

公司儲備各顯微鏡現貨,只要您有需求,我們就能隨時為您提供各種產品選配服務。公司管理層、營銷隊伍和技術人員都具備多年的專業技術經驗,相信我們的質量和服務一定是顯微光學領域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業的人員,過硬的技術,優秀的產品"精神,為您提供專業、及時、周到的技術服務,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












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產地類別 進口 應用領域 環保,生物產業,地礦,制藥,綜合

低成本效益高

等離子蝕刻機Etchlab 200結合平行板等離子體源設計與直接置片。

升級擴展性

根據其模塊化設計,等離子蝕刻機Etchlab 200可升級為更大的真空泵組,預真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件

等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數窗口,工藝編輯窗口,數據記錄和用戶管理。

代表了直接置片家族,它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優點。Etchlab 200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設計特點。位于頂部電極和反應腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進行原位監測。

Etchlab 200等離子蝕刻機可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導體,介質和金屬。

Etchlab 200通過的SENTECH控制軟件操作,使用遠程現場總線技術和用戶友好的通用用戶界面。

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主要基于等離子體的產生和應用,其詳細原理可以歸納如下:### 一、等離子體產生* **氣體引入與電離**:在Etchlab 200等離子蝕刻機中,首先會向真空室內引入適量的氣體(如氧氣、氟氣等),這些氣體在高頻電場的作用下被電離,形成等離子體。等離子體是由部分離化的中性氣體組成,其中包含離子、電子、原子和活性基團等“活性”組分。* **加速過程**:產生的等離子體隨后被加速器加速,使其具有足夠的能量來撞擊材料表面。### 二、刻蝕過程* **物理刻蝕**:加速后的等離子體以高速撞擊材料表面,通過物理碰撞將表面的原子或分子擊出,這個過程稱為物理刻蝕。* **化學刻蝕**:同時,等離子體中的活性組分(如離子、自由基等)與材料表面發生化學反應,進一步促進刻蝕過程。這些化學反應可能包括氧化、還原、置換等,具體取決于所使用的氣體種類和材料性質。### 三、刻蝕產物移除* 刻蝕過程中產生的產物會附著在材料表面,為了保持刻蝕的連續性和精度,需要將這些產物及時移除。Etchlab 200等離子蝕刻機通過引入適量的氣體(如惰性氣體)與刻蝕產物反應,形成易揮發的化合物,從而將刻蝕產物帶走。### 四、控制系統* Etchlab 200等離子蝕刻機配備了先進的控制系統,可以調整等離子體的能量、氣體流量等參數,以精確控制刻蝕過程的速率和精度。此外,該系統還具備模擬圖形用戶界面、參數窗口、工藝編輯窗口等功能,方便用戶進行工藝設置和監控。### 五、應用特點* **高精度**:由于等離子體的高能量和精確控制,Etchlab 200能夠實現高精度的微細結構制造和加工





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