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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>硅片制備/晶體生長設備>單晶爐>FZ-14M(G) 區熔晶體生長系統

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FZ-14M(G) 區熔晶體生長系統

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

FZ-14M(G) 區熔晶體生長系統可在線圈下放置顆粒硅料,使用籽晶將熔融的顆粒硅拉出用于材料分析的小單晶棒, 在拉制過程中顆粒硅容器和籽晶旋轉方向相反。此外,上主軸可以在XY方向移動。

產品數據概覽:

材料:硅

晶體

晶體拉動長度 350 mm

晶體直徑: 最長可達 25 mm

最后真空度: 2.5 x 10-5 mbar

最大過壓: 2 bar(g)

發電機

輸出電壓: 15 kW

頻率: 2.4 MHz (FZ-14M)

上軸

進料速度: 最高 30 mm/min

上部旋轉: 最高 30 rpm

下軸

拉動速度: 最高 30 mm/min

下部旋轉: 最高 30 rpm

尺寸規格

高度: 3,000 mm

寬度: 1,020 mm

深度 1,640 mm

面積(總): 1,800 mm x 4,000 mm

重量(總): 2,500 kg

區熔(FZ)技術作為提純方法為生產高電阻率的超純硅單晶提供了技術可行性,該技術可應用于高性能電子和半導體技術領域。其另一優點是可以從氣相中連續摻入,這使得在整個晶體的電阻率沿長度方向保持一致。因此,幾乎可以在整個晶體上均勻地實現所需的電性能。由于電荷載流子的高壽命和極低的氧含量(無坩堝工藝),FZ晶體同樣也適用于光伏行業。

區熔(FZ)技術作為提純方法與CZ直拉工藝等競爭方法相比,FZ工藝的優勢在于只有緊鄰感應線圈的一小部分晶體需要被熔化,無需使用石英坩堝(每爐次耗用一個),可實現高拉速,因此降低了耗材成本的同時也降低了能源成本。此外,無論是從硅還是其他合適的材料中提取的晶體,可以通過多次處理,顯著地提高純度。




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