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PIS系列 PVD純離子真空鍍膜設備

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安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創業團隊于2014年創立的高科技公司,坐落于合肥市蜀山區大別山路1599號。主要從事真空納米、微米級鍍膜裝備的設計、研發和制造;并提供多種功能膜層的工藝開發和鍍膜加工服務。

公司目前擁有設計、研發、工藝、市場和生產等各方面的專業型人才。在陰極弧(Cathode Arc)、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積(CVD)等領域都掌握了核心技術;特別是公司自主設計、研發、制造的純離子鍍膜設備(Pure Ion Coating Equipment)能夠制備出性能*的類金剛石膜、金屬膜、金屬化合物膜等。

鍍膜設備有:純離子鍍膜設備系列、多元化高致密金屬鍍膜設備系列、高精模具鍍膜設備系列、磁控濺射設備系列、高真空精密光學薄膜鍍膜設備系列、反應離子刻蝕系列等。

膜層系列有: Ta-C、DLC、氮化物膜(TiN、CrN、AlCrN等)、碳化物膜(CrC、WC等)、高致密金屬/合金膜和光學膜層(減反膜、濾光膜、高反膜、紅外膜等)等。

公司裝備及膜層廣泛應用于交通工具、切削工具、消費電子、紡織機械、醫療、新能源和科研等行業。




PVD真空鍍膜設備、高致密金屬鍍膜設備、磁控濺射設備、多弧磁過濾鍍膜、類金剛石涂層、碳氮氧化物加工服務

產地類別 國產 價格區間 面議
應用領域 能源,電子,交通,航天,汽車 技術 多弧磁過濾
設備性能 性能穩定 價格 物美價廉

PVD純離子真空鍍膜設備

· 設備簡介:
   PVD純離子真空鍍膜設備主要是集純離子鍍膜技術(PIC)、高能離子束清洗技術(IONBEAM)和磁控濺射技術(SPUTTER)三種技術融合于一體,其純離子鍍膜源核心技術,利用高效的電磁過濾系統和電磁掃描系統有效過濾掉中性粒子、大顆粒離子團等雜質,大幅度提高等離子束流純度,使膜層更加致密硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性也更優異。

PVD純離子真空鍍膜設備

· 設備主要應用:

>高校及科研院所;

>汽車發動機關鍵零部件;

>新能源雙極板、紡織零部件;

>刀具模具、醫療器械、消費電子行業等。

· 產品特點:

>核心技術、低溫鍍膜、高效過濾;

>均勻性控制 +5% 以內、工藝成熟;

>膜層性能優:硬度高、摩擦系數低;

>多種膜層系列、可大批量高效率生產等。

· 鍍膜設備參數(可按客戶需求定制):

PVD純離子真空鍍膜設備

· 應用領域(服務案例):






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