根據光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據其是否需要使用掩膜版細分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統掩膜版的光刻機，它通過直接對晶圓進行曝光，實現圖案的轉移，能夠更快速地制造特定產品、降低成本，除了能夠滿足傳統的2D光刻需求外，還能實現2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機不需要掩膜版、高度靈活的優點，使其被廣泛應用于科學研究、定制化生產、快速原型制造、電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等領域。

托托科技科研版無掩膜光刻機-Academic

高靈活性、高精度、無掩膜的優勢，非常適用于科學研究。

ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調制技術，實現了數字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究選擇。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩定，上手簡單。其原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設備為科研工作提供了強大的支持，助力科學研究領域的發展和創新。

托托科技科研版無掩膜光刻機-ACA無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機