AT 200M 迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
- 公司名稱 北京盈思拓科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 AT 200M
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/11/18 15:45:23
- 訪問次數(shù) 265
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價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,綜合 |
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原子層沉積系統(tǒng)ALD
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市場上占地面積最小的 ALD(原子層沉積)工具。AT200M 體積小巧,可以放入手套箱中,因此是濕氣或空氣敏感沉積的解決方案。
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占地面積小(~ 15 in3 或 38.1 cm3)
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半導(dǎo)體級元件
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金屬密封管路
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通風(fēng)前驅(qū)體外殼
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兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥,帶有超快速 MFC,用于集成惰性氣體吹掃
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前驅(qū)體(最高 150°C),歧管,腔室加熱以確保無冷凝。
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強(qiáng)大的 PLC 驅(qū)動(dòng)用戶界面
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不銹鋼腔室可加熱至 300°C。
規(guī)格:
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腔室溫度從 RT 到 300°C ± 1 °C
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前驅(qū)體溫度從 RT 到 150°C ± 2°C(帶加熱夾套)
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市場上占地面積最小(1.6 平方英尺),臺式安裝,兼容潔凈室,也適合手套箱。
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系統(tǒng)維護(hù)簡單,公用設(shè)施和前驅(qū)體使用量低。
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腔室容積小
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非常快速的循環(huán)能力。
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完整的硬件和軟件互鎖,即使在多用戶環(huán)境中也能安全操作