應用領域 | 化工,能源,電子,交通,航天 |
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RIE系列離子刻蝕機(褪膜設備)
一、主要特點:
1、離子刻蝕機(褪膜設備)能夠以超低清洗溫度,滿足不同場合溫度要求,不對清洗產品造成溫度影響;
2、旋轉裝置為行星旋轉機構、具鍍膜工藝不同,設計為:變頻調速,公轉式、公自轉結合式。采用氣動門鉸,自動鎖門,減少操作程序,增強真空門整體的密閉性及減少對橡膠密封圈的破壞性;
3、高真空度真空腔體設計及制造工藝,配置進口真空泵(分子泵),用戶可據自己的需求,隨時升級為多功能鍍膜設備;
4、設備采用高壓激勵電路技術,產生高密度等離子體,確保出眾的清洗效果;
5、放電技術:特殊處理及特殊結構的放電裝置,確保形成穩定均勻的等離子體;
6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,實現邏輯全自動控制;
7、報警及保護:全面安全防護包括:溫度安全防護功能、過載防護功能、短路斷路報警防護功能,各種誤操作保護功能。異常情況進行報警,并執行相應保護措施。
二、技術優勢:
1、物質的微結構表面會粘附各種各樣的氣體分子、微小顆粒、氧化物雜質等,統稱為粘附物,這些粘附物屬于微觀粒子,宏觀的清洗方式不能清除它們;
2、這些微觀粘附物會對納米級膜層產生諸多不利影響,影響膜層的結合力、清潔度、光澤、致密度等;
3、離子束刻蝕清洗源可以在真空條件下產生高能氬等離子體,轟擊被鍍工件表面;它不僅可以消除表面粘附物,還能“刻蝕”物質表面氧化物,從而得到“新鮮”物質表面,可以極大地提高薄膜的結合力,并提高膜層純度;
4、離子束清洗工藝通常運行在膜層沉積之前。 清洗各種形狀復雜的產品,包括內孔內壁、均勻清洗;
5、設計更緊湊合理、美觀;離子束更穩定;工作功率范圍更寬;清洗刻蝕效率更高;刻蝕均勻性更好;性能可靠,操作維修簡單方便;產品系列更完整;
6、應用領域,可以為如下行業的鍍膜提供表面清洗預處理:3C消費電子、電子元器件、光學、 交通工具、刀具模具、家電、新能源、醫療、科研等行業。
三、設備參數:
型號 | RIE2501-2 |
腔室尺寸 | 470*300*245(mm) |
離子源類型 | 陽極層離子源 |
極限真空 | <5.0*10-4Pa |
備注 | 設備可根據客戶需求進行定制 |
四、應用領域:
1、可褪碳基薄膜,可作為DLC/TAC薄膜的褪膜機使用;
2、可應用在:3C消費電子、電子元器件、光學、交通工具、刀具模具、家電、新能源、醫療、科研等行業。
注明:以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室-檢測結果