PISC系列 等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子,交通,航天 |
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PISC系列等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備
一、設(shè)備功能簡(jiǎn)介
1、純離子鍍膜源,采用高效電磁過濾系統(tǒng),有效祛除顆粒,獲得更高純度的離子束流,幫助提升涂層基礎(chǔ)硬度及結(jié)合力;
2、高能離子束清洗源,采用特殊設(shè)計(jì)的放電結(jié)構(gòu),有效兼容了等離子清洗活化、輔助電離、獨(dú)立沉積等功能;
3、磁控濺射源,采用創(chuàng)新的磁場(chǎng)設(shè)計(jì),有效提升靶材利用率30%以上;
4、磁約束氣相沉積源,可靠且易于維護(hù)的結(jié)構(gòu),可以實(shí)現(xiàn)快速而又細(xì)膩的涂層沉積。
二、主要特點(diǎn)及技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1、等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備可實(shí)現(xiàn)TAC-DLC的組合,比單純CVD的結(jié)合力大幅度提升,同時(shí)降低了PVD的顆粒度,縮短工藝時(shí)間;
2、可實(shí)現(xiàn)多種工藝C膜沉積,純離子鍍TAC,磁約束放電DLC,陽極層離子源鍍DLC等;
3、設(shè)有電磁掃描裝置和軟件,可定點(diǎn)定時(shí)控制等離子體的束流方向,極大改善了鍍膜均勻性問題,整爐膜層均勻性控制±5%以下;
4、優(yōu)化的磁場(chǎng)設(shè)計(jì)及冷卻設(shè)計(jì),維護(hù)方便,設(shè)備穩(wěn)定性好;
5、友好的人機(jī)界面,實(shí)時(shí)記錄工藝數(shù)據(jù),利于質(zhì)量管控、疑難分析、開發(fā)新工藝等;
6、本項(xiàng)目為交鑰匙設(shè)備,純?cè)垂咎峁┱捉鉀Q方案,包括穩(wěn)定成熟鍍膜配方。
三、設(shè)備參數(shù)
型號(hào) | PISC-6141 |
真空室結(jié)構(gòu) | 立式 |
純離子鍍膜源 | 6個(gè) |
磁控濺射源 | 4個(gè) |
線性離子源 | 4個(gè) |
磁約束氣相沉積源 | 1套 |
備注 | 設(shè)備可根據(jù)客戶需求進(jìn)行定制 |
四、膜層系列
DLC系列 | DLC |
TAC系列 | H-TAC |
Si-TAC | |
N-TAC | |
F-TAC |
典型涂層類型:
(1)Me-TAC,金屬TAC復(fù)合涂層,應(yīng)用廣泛;
(2)Me-DLC,金屬DLC復(fù)合涂層,應(yīng)用廣泛;
(3)Me-TAC-DLC,TAC-DLC復(fù)合涂層,獲得TAC更高基礎(chǔ)硬度與結(jié)合力的同時(shí),兼有DLC的沉積速率及細(xì)膩外觀。
五、應(yīng)用領(lǐng)域
1、高校及科研院所;
2、特殊功能零部件;
3、工業(yè)領(lǐng)域:切削工具、注塑模具、紡織零配件等。
注明:以上數(shù)據(jù)來源于安徽純?cè)村兡た萍加邢薰?材料實(shí)驗(yàn)室-檢測(cè)結(jié)果