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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>其它實驗室設備>KT-Z1650CVD 小型直流式磁控濺射儀

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KT-Z1650CVD 小型直流式磁控濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準

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公司是集研發(fā)、設計、制造、銷售為一體的新材料制備設備創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產品已經遍布國內眾多實驗室及學校,科探儀器已經成為老師和同學信賴的品牌。公司以科技創(chuàng)新為主,服務社會為宗旨,積極設計開發(fā)新型材料制備設備,奉獻于教育實驗和科學研究。經過長期的研發(fā)和不斷的技術積累,擁有材料制備、材料測試、材料運用等,相關技術10余項,為化學、物理、材料、電子等方面;新材料制備和研發(fā)領域的科學工作者們提供了精良的設備。公司通過和院校老師、同學強強聯(lián)合,形成了高效的信息技術交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!


高真空機組,智能供氣儀,等離子清洗機,小型磁控濺射儀,小型蒸鍍儀,石英管真空封口機,真空探針臺

產地類別 國產 應用領域 能源,電子,航天,電氣,綜合

小型直流式磁控濺射儀 KT-Z1650PVD離子濺射儀為一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統(tǒng),對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時,交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔,之后試樣復原,再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料,有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料,氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。

*外形小巧方便移動

*觸摸屏控制,工藝記憶儲存方便鍍相同樣品

*自動化電動擋板,能自動打開關閉,保證鍍樣時間和保護樣品

*石英+不銹鋼腔體,方便觀察和清洗

 

小型直流式磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V 電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8/分鐘

樣品濺射源調節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

 

 




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