CY-PECVD-240T-SS 等離子增強化學氣相沉積設備
參考價 | ¥ 60000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CY-PECVD-240T-SS
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/12/17 11:38:45
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簡單介紹:
等離子增強化學氣相沉積設備采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜詳情介紹:化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
主要功能及特點:
等離子增強化學氣相沉積設備利用平板電容式輝光放電原理,將通入沉積室的工藝氣體解離并產生等離子體,被解離的基團在等離子體中重新發生化學反應,由于等離子體存在,促進氣體分子的分解、化合、激發和電離,促進反應活性基團的生成,從而降低沉積溫度,在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜。可根據工藝調節等離子體的密度和能量,控制薄膜的生長速率和微結構。
產品參數:
產品名稱 | 桌面式4英寸平板等離子體增強化學氣相沉積PECVD | |
產品型號 | CY-PECVD-240T-SS | |
供電電源 | AC220V 50Hz | |
射頻電源 | 信號頻率 | 13.56MHz |
功率輸出范圍 | ||
工作腔體 | 加熱溫度 | RT-500℃(還可選擇600℃,800℃,1000℃等) |
樣品臺尺寸 | Φ100mm(兼容4英寸及以下樣品) | |
樣品臺轉速 | 1-20rpm 可調 | |
腔體材質 | 不銹鋼 | |
觀察窗 | Φ60mm, 帶擋板 | |
供氣系統 | 通道數 | 3 (可根據需要選擇其他通道數,其他氣體種類,其他測量范圍) |
測量單位 | 質量流量計 | |
測量范圍 | A 通道: 0~200SCCM for O2 | |
B通道: 0~200SCCM for N2 | ||
C通道: 0~200SCCM for Ar | ||
真空系統 | 前級泵抽速 | 1.1L/s |
分子泵抽速 | 60L/s | |
真空測量 | 復合真空計 | |
真空度 | 5.0*10-3Pa | |
水冷機 | 水流速 | 10L/min |
冷卻功率 | 50W/℃ |