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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>CY-PECVD100-1200-Q CVD化學氣相沉積系統

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CY-PECVD100-1200-Q CVD化學氣相沉積系統

參考價 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發區,是一家專業從事材料制備設備研發、生產和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區域提純等研究發展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業知識和豐富的實踐經驗,先后研發出了多款*材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發,使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業界*好評。

如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業務洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

簡單介紹:

CVD化學氣相沉積系統廣泛應用于材料科學和工程領域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導體、光電子、能源、生物醫學等領域都有重要應用

詳情介紹:

CVD氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術,通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應,形成薄膜。


1. 反應室溫度:通常在幾百到千度之間,具體取決于所需的反應溫度和材料。


2. 反應氣體:根據所需的薄膜材料和結構,可以使用不同的反應氣體,如氨氣、氫氣、氧氣、二氧化硅等。


3. 壓力范圍:通常在幾百帕到幾千帕之間,具體取決于反應物質和反應條件。


4. 反應時間:根據所需的薄膜厚度和質量,反應時間可以從幾分鐘到幾小時不等。


5. 基底材料:CVD系統可以用于各種基底材料,如硅、玻璃、金屬等。


6. 應用領域:CVD氣相沉積系統廣泛應用于材料科學和工程領域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導體、光電子、能源、生物醫學等領域都有重要應用。

CVD化學氣相沉積系統

技術參數:

產品名稱

CVD化學氣相沉積系統

產品型號

CY-PECVD100-1200-Q

頻電源

信號頻率

13.56MHz±0.005%

功率輸出

0~300W

*大反射功率

100W

反射功率

<3W (*大功率時)

功率穩定性

±0.1%

管式爐

管子材質

高純石英

管子外徑

100mm

爐膛長度

440mm

加熱區長度

200mm+200mm (雙溫區)

連續工作溫度

≦1100℃

溫控精度

±1℃

溫控模式

30段程序控溫

顯示模式

LCD觸摸屏

密封方式

304 不銹鋼真空法蘭

供氣系統

通道數

6通道

測量單元

質量流量計

測量范圍

A 通道: 0~200SCCM, 氣體為H2  

B 通道: 0~200SCCM,氣體為CH4

C 通道: 0~200SCCM,氣體為 C2H4

D通道: 0~500SCCM,氣體為 N2

E通道: 0~500SCCM,氣體為 NH3

F通道: 0~500SCCM, 氣體為 Ar

測量精度

±1.5%F.S

工作壓差

-0.15Mpa~0.15Mpa

接頭規格

1/4" 卡套接頭

氣體混合罐

1L

真空系統

機械泵

雙極旋片泵

抽速

1.1L/S   

真空測量

電阻規

極限真空

0.1Pa

抽氣接口

KF16

滑  軌

爐體可以滑動,實現快速降溫

供電電源

AC220V 50Hz




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