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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>CY-PECVD100-1200-Q PECVD氣相沉積

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CY-PECVD100-1200-Q PECVD氣相沉積

參考價 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發區,是一家專業從事材料制備設備研發、生產和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區域提純等研究發展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業知識和豐富的實踐經驗,先后研發出了多款*材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發,使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業界*好評。

如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業務洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

簡單介紹:

PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用

詳情介紹:

是化學氣相淀積的一種,其特點是在低溫下利用等離子體的激活作用來增強化學氣相沉積反應。這種方法的優點是沉積溫度低,沉積速率快,而且制得的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及**的臺階覆蓋性。 

應用領域:

等離子增強CVD系統可以用于:石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所。可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、**裝飾等領域,在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用.

PECVD氣相沉積

技術參數:

產品名稱

PECVD氣相沉積

產品型號

CY-PECVD-500T-SS

腔體尺寸

φ500

溫區長度

200

射頻電源

500W-

溫度

1000℃-

前級泵

分子泵組

顯示類型

T

溫區

I-

水冷機

CW5200

腔體材質

SS

樣品加熱加熱溫度

RT-1000℃以上,溫控精度:±1°C,采用控溫表進行控溫;

可調轉速:1-20rpm可調

噴淋頭尺寸

Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續可調(可根據工藝調整),并帶有標尺指數顯示

樣品臺

直徑200mm

沉積工作真空

0.133-133Pa(可根據工藝調整)

頂部法蘭

可通過馬達提升,基板更換方便,有可視口

基板臺

基板臺的線性和方位角運動,基板加熱和溫度控制,安裝臺和觸摸屏控制,基板線性運動是手動控制的,基板旋轉是由直流電動機控制的

真空腔體

前開門式,φ500mm X 500mm 不銹鋼材質

觀察窗

φ100mm 帶擋板

質量流量計

六路質量流量計

氣路數量

六路

承壓范圍

-0.15Mpa~0.15Mpa

量程

0~100 SCCM(氧氣)

0~100 SCCM(CF4)

0~200 SCCM (SF6)

0~200 SCCM (氬氣)

0~500 SCCM (其他氣體空氣)

0-500sccm (其他氣體氮氣)

流量控制范圍

±1.5%

氣路材料

304不銹鋼

管道接口

6.35mm卡套接頭

真空系統

前級泵:無油真空泵4.7L/S

分子泵:1200L/S

測量范圍

1×10-5~1×105Pa

測量精度

1×10-5~1×10-4Pa ±40%的讀數

1×10-4~1×105Pa ±20%的讀數




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