應用領域

• 半導體制造：用于芯片制造過程中的晶圓清洗、光刻、蝕刻等環節，確保芯片表面的潔凈度和性能 。

• 平板顯示器制造：在液晶顯示器、有機發光二極管顯示器等制造過程中，用于清洗玻璃基板、鍍膜等工序，保證顯示器的質量和顯示效果 。

• 光電子器件制造：如激光二極管、光電探測器等光電子器件的生產過程中，需要超純水進行清洗和加工，以提高器件的性能和可靠性 。

工藝流程

• 預處理：通常包括砂濾、活性炭過濾、軟化等步驟，用于去除水中的大顆粒雜質、有機物和硬度離子，防止它們對反滲透膜造成堵塞或損壞。

• 一級反滲透：經過預處理的水進入一級反滲透裝置，在壓力作用下，水通過反滲透膜，鹽分、有機物等雜質被截留，產水電阻率一般在 0.05-0.5mΩ.cm，可滿足一些對水質要求相對較低的半導體生產環節需求 。

• 二級反滲透：一級反滲透的產水再經過二級反滲透進一步提純，能更有效地去除水中的殘留雜質，使產水水質更高，電阻率可達到更高水平，更接近半導體生產所需的超純水標準 。

• 后續處理：為了達到半導體行業對超純水的嚴格要求，二級反滲透后的水還可能經過 EDI（電去離子）裝置、離子交換樹脂、超濾、紫外燈殺菌等后續處理步驟，進一步去除水中的微量離子、有機物和微生物等 。