應用領域 | 化工,石油,能源,冶金,綜合 |
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一、設備用途
本設備主要用于從 4N 到高純硒的提純制備,可將 4N 硒中的大多數元素通過真 空揮發除雜,使硒達到 5~6N 標準。
二、高溫真空揮發爐主要技術參數
1、額定電壓功率:三相,380V,50Hz,≤30Kw
2、坩堝容量:20kg (以硒比重計算)
3、坩堝溫度:≥800℃
4、真空度:≤1x10-1Pa
5、坩堝材質:石英材質
6、極限真空度:<10Pa
7、主要組成部分:真空腔體、爐架、真空系統、熔煉裝置、收集塔、爐蓋升降裝置、 底部升降裝置
三、高溫真空揮發爐設備優勢
1、爐門采用側部開門結構,方便進出料和安裝拆卸熔煉坩堝
2、爐架由型鋼和數控折板組裝成爐架,用于支撐爐體,并做為操作平臺,使操作更具人性化
3、真空爐內溫度均勻且穩定,具有良好的熱傳遞性能,確保材料在加熱過程中受熱均勻,減少熱處理過程中的溫度差異
4、在真空爐內可以排除氧氣、水蒸氣等有害氣體,從而減少材料表面的氧化反應,保持材料的純凈度和性能
5、真空爐內部溫度均勻且穩定,這得益于其先進的加熱系統和溫度控制系統。通過電阻加熱或電磁感應加熱方式,真空爐能夠確保材料在加熱過程中受熱均勻,從而提高 熱處理效果。
6、本設備具有良好的熱傳遞性能,使得熱量能夠迅速且均勻地傳遞到材料內部,提高加熱效率。