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行業(yè)產(chǎn)品
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德國BUSCH廢氣處理系統(tǒng)
普旭真空為半導(dǎo)體、LCD及相關(guān)行業(yè)提供了應(yīng)用廣泛的新一代廢氣處理系統(tǒng)。高效的廢氣處理技術(shù)提供凈化到閾限值以下的氣體,同時滿足現(xiàn)有的和發(fā)展中的要求。
產(chǎn)品型號
Technology | Model | Capacity(SLM) | Applications | Gas |
Flameless Catalytic (AFC) | AFC 0500A | 500 | PE-CVD, HDP-CVD, ALD(NF3), AMOLED 6G CVD | Flammable gases,water-soluble gases |
AFC 2000A | 2000 | AMOLED 6G CVD | ||
Wet-Plasma-Wet(APW) | APW 0500A | 500 | etch for PFCs | |
Burn-Wet (ABW) | ABW 0500A | 500 | CVD,etch for PFCs | |
Thermal-Wet (ATW) | ATW 0500A | 500 | ALD,CVD,DIEF | |
ATW 1000A | 1000 | ALD,CVD,DIFF,LCD | ||
ATW 3500A | 3500 | MO-CVD,EPI, LCD(7G) | ||
ATW 4000A | 4000 | MO-CVD,EPI, LCD(>8G) | ||
Wet(AWE) | AWE 0500A | 500 | metal etch | water-soluble gases |
AWE 0500AE | 500 | EPI(DCS,TCS) | ||
Semi-Dry (ASD) | ASD 0800A | 800 | etch for cost-saving |
無焰催化處理技術(shù)(AFC)
AFC是結(jié)合了無焰催化熱氧化和濕法處理技術(shù)的高溫催化劑系統(tǒng)。用于 集成到高效單一系統(tǒng)中,旨在減少易燃,水溶性氣體并使NF3可容納高達3000SLM的高氣流。
技術(shù)特點:
››在半導(dǎo)體應(yīng)用和AMOLED流程中(使用大量生成氣體和NF3的粉末)非常適合CVD工藝(使用NF3作為吹掃氣體)。
››金屬蝕刻應(yīng)用的完美解決方案。
››由于電加熱器和廢氣反應(yīng)熱,催化劑區(qū)域始終保持高溫,而沒有燃燒額外的燃料(LNG)。
››減少NOx生成
››粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區(qū)中
››降低了運行成本
››易于維護和濾芯更換
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濕法-等離子-濕法處理技術(shù)(APW)
APW是一個集成于單一系統(tǒng)的濕法-等離子-濕法處理技術(shù)的組合,是氧化物和多晶硅蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇。
技術(shù)特點:
››創(chuàng)新的濕法等離子分離設(shè)計
››耐用的反應(yīng)堆等離子炬和電源設(shè)計
››具有高氣體DRE(%)的穩(wěn)定性能
››在廢氣進入等離子反應(yīng)器之前,先將副產(chǎn)物和水溶性氣體進行預(yù)濕區(qū)去除
››有效減少CF4,C2F6,SF6等PFCs
››核心零件的使用壽命長和維護周期
››易于清潔和預(yù)防性維護
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燃燒-濕法處理(ABW)
ABW是集成于單一系統(tǒng)中燃燒和濕法處理技術(shù)的組合,旨在有效減少PFCs,是CVD和蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇。
技術(shù)特點:
››創(chuàng)新的快速燃燒濕室分離設(shè)計
››多個安全聯(lián)鎖
››燃燒室?guī)в兴浔跈C制的湍流火焰
››燃燒過程中可能產(chǎn)生的粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區(qū)
››有效減少CF4,C2F6,SF6等PFCs
››性能穩(wěn)定
››運行成本低
››易于清潔和預(yù)防性維護
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熱式-濕法處理技術(shù)(ATW)
技術(shù)特點:
ATW將電熱和濕法處理技術(shù)結(jié)合在一個系統(tǒng)中,該系統(tǒng)旨在容納高達4000 SLM的總氣流,是重粉生成和腐蝕性應(yīng)用的理想選擇。
››創(chuàng)新的快速熱濕室分離設(shè)計
››多個安全聯(lián)鎖
››兩種減排方法的組合,即熱濕法(通過易燃和發(fā)火性氣體的無焰熱氧化改變工藝氣體的化學(xué)性質(zhì))和水溶解(對于水溶性氣體)
››易于清潔和預(yù)防性維護
››觸摸屏顯示
濕法處理技術(shù)(AWE)
技術(shù)特點:
AWE濕式洗滌器是適應(yīng)高H2和金屬粉末生成應(yīng)用的理想選擇。
››金屬蝕刻應(yīng)用的完美解決方案
››*的安全性和正常運行時間
››四個獨立的反應(yīng)室,配備智能入口防止堵塞功能和強大的文丘里管裝置
››內(nèi)置水循環(huán)系統(tǒng)
››降低了運營成本
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