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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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FR-Scanner 掃描型光學膜厚儀主要由以下系統組成： A) 光學光源裝置 小型低功率混合式光源 本系統混合了白熾燈和LED燈，終形成光譜范圍360nm- 1100nm；該光源系統通過微處理控制，光源平均壽命逾10000小時； 集成小型光譜儀，光譜范圍360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度. 集成式反射探針，6組透射光探針（200um），1組反射光探針，探針嵌入光源頭，可修整位置，確保探針無彎曲操作； 光源功率:3W; B) 超快掃描系統，平面坐標內，可進行625次測量/分鐘 (8’’ wafer) 或500次測量/分鐘(300mm wafer). 全速掃描時，掃描儀的功率消耗不超過200W； 樣品處理臺：大樣品處理尺寸可達300mm. 可滿足所有半導體工藝要求的晶圓尺寸。手動調節測量高度可達25mm；配有USB通訊接口，功率：100 - 230V 115W. C) FR-Monitor膜厚測試軟件系統， 可精確計算如下參數： 1）單一或堆積膜層的厚度； 2）靜態或動態模式下，單一膜層的折射率；本軟件包含了類型豐富的材料折射率數據庫，可以有效地協助用戶進行線下或者在線測試分析。本系統可支持吸收率，透射率和反射率的測量，還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜，一次使用*，即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測試后的結果分析使用。 D) 參考樣片: a) 經校準過的反射標準硅片； b) 經校準過的帶有SiO2/Si 特征區域的樣片； E) 附件 |
可定制適用于半導體工藝的任何尺寸的晶圓片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)
