產品簡介：

 磁控濺射鍍膜儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，zui簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。

主要特點：

 主要特點如下：

1、    配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監    控儀器狀態；

2、    濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得*鍍膜效果；

3、    特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證*使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊"現象；

4、    陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用；

根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。

技術參數：

 主要技術參數：

1、      本系統裝配了磁控靶，靶面直徑為50 mm，可快速更換靶材。濺射頭用Peltier制冷，可得到高性能、精細顆粒的涂層（無需水冷卻）。

2、      可選用水冷濺射頭和水冷載物臺。

3、主機規格：L360mm*W300mm*H380mm

4、靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm

5、真空樣品室：   直徑：160mm，高：120mm

6、濺射面積：     Ф50mm   

7、指示表：   zui高真空度：≤4X10^-2   mbar

8、子電流表：   zui大電流：50mA(100mA)

9、定時器：       zui長時間：9999S

10、微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

11、可通入氣體：   多種

12、zui高電壓：     -1600 DCV

13、機械泵：       2L/S