技術指標

X射線膜厚測試機器分析元素范圍：硫（S）～鈾（U） 
同時檢測元素：*多24個元素，多達5層鍍層
分析含量：一般為2ppm到99.9% 
鍍層厚度：一般在50μm以內（每種材料有所不同）
SDD探測器：分辨率低至135eV
良好的微孔準直技術：*小孔徑達0.1mm,*小光斑達0.1mm
樣品觀察：配備全景和局部兩個工業高清攝像頭 
準直器：0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準直器組合 
儀器尺寸：690（W）x 575（D）x 660（H）mm
樣品室尺寸：520（W）x 395（D）x150（H）mm
樣品臺尺寸：393（W）x 258 （D）mm
X/Y/Z平臺移動速度：額定速度200mm/s 速度333.3mm/s
X/Y/Z平臺重復定位精度：小于0.1um
操作環境濕度：≤90%
操作環境溫度：15℃～30℃ 
全自動智能控制方式，一鍵式操作!
開機自動自檢、復位； 
開蓋自動退出樣品臺，升起Z軸測試平臺，方便放樣； 
關蓋推進樣品臺，下降Z軸測試平臺并自動完成對焦； 
直接點擊全景或局部景圖像選取測試點； 
點擊軟件界面測試按鈕，自動完成測試并顯示結果。 
 

性能優勢 

1.X射線膜厚測試機器精密的三維移動平臺 

2.的樣品觀測系統 
3.良好的圖像識別 
4.輕松實現深槽樣品的檢測 
5.四種微孔聚焦準直器，自動切換 
6.雙重保護措施，實現無縫防撞 
7.采用大面積高分辨率探測器，有效降低檢出限，提高測試精度