真空快速退火爐-材料設備

真空快速退火爐-材料設備（RTP）一般都是以紅外鹵素燈為發熱元件，升溫速度極快，采用熱電偶測溫并采用國際*的PID控制，具有很高的控溫精度，快速退火爐具有真空裝置，可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。


儀器規格：
加熱方式：紅外鹵素鎢燈；
最大樣品尺寸： 2--6寸，單片；
最高溫度： 1200度；
工作氣體：最多3路氣體（MFC控制），可通入氧氣，氮氣及惰性氣體；
極限真空：5e-3torr；
真空泵：機械泵（可選配分子泵，干泵）；
工藝控制：手動工藝控制；
循環水冷卻，提高降溫速度；
結構緊湊，經濟實惠。


應用：
快速熱升溫工藝（熱退火）；
薄柵氧化（納米器件)；
低熔點壓焊（反應金屬壓焊）；
硅化物構造；
硅化物界點構造等。