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當前位置：北京愛萬提斯科技有限公司--Avantes>>技術文章>>真空光譜學
在真空環境下對高速等離子體鍍層過程反射率的實時監測是光譜學測量的一項應用。
Avantes對在真空環境下測量有著豐富的經驗，并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學的需要。這些技術經常用于點檢測等復雜的過程控制監控。可以對一個峰值或一定的波長范圍進行監測，以檢測出一個在過程結束時光譜偏移帶來的拐點。在進行高真空(~10-3 torr)和超高真空(~10−9 torr)測量時，需要特別注意所選用的光譜儀和光纖。Avantes對在真空環境下測量有著豐富的經驗，并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學的需要。
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