帶有集成靜電中和技術(shù)的分析天平可以解決靜電煩惱，并確保各種分析稱(chēng)重應(yīng)用的準(zhǔn)確性，是一種緊湊且有效的解決方案。Cubis® II 分析天平和半微量天平集成了電荷中和技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的稱(chēng)量性能。
靜電荷是如何形成的
電子逸出功是指一個(gè)電子離開(kāi)金屬表面所需的能量。兩個(gè)物體之間的摩擦?xí)l(fā)離子形成，因此電子逸出功較低的物質(zhì)很容易給電子逸出功較高的物質(zhì)提供電子。在稱(chēng)重過(guò)程中，樣品內(nèi)部或樣品與容器或皮重容器之間存在摩擦，會(huì)產(chǎn)生靜電。
靜電荷對(duì)分析稱(chēng)重的影響
待稱(chēng)重物質(zhì)與天平固定部位相互作用，因該部位與稱(chēng)重盤(pán)（包括通風(fēng)罩或底板）沒(méi)有導(dǎo)電連接，所以導(dǎo)致物質(zhì)表面電荷積聚，進(jìn)而產(chǎn)生靜電力。這些靜電力可能會(huì)產(chǎn)生虛假絕對(duì)重量（即與實(shí)際重量顯著偏離），并影響稱(chēng)重精度。當(dāng)電荷通過(guò)稱(chēng)量盤(pán)消散時(shí)，靜電力的變化會(huì)導(dǎo)致漂移，從而產(chǎn)生不一致的結(jié)果并降低重復(fù)性。
靜電中和技術(shù)
賽多利斯 Cubis® II 采用了集成的電荷中和技術(shù)，可有效去除樣品和容器中的電荷，從而實(shí)現(xiàn)更精確的分析稱(chēng)重。
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