目錄:深圳華普通用科技有限公司>>直讀光譜儀>>斯派克直讀光譜儀>> SPECTRO MAXx(LMX07)火花直讀光譜儀
激發(fā)方式 | 火花 | 價格區(qū)間 | 60萬-100萬 |
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檢測器類 | 雙檢測器(PMT+CCD) | 儀器種類 | 落地式 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,能源,建材,電子 |
一、儀器介紹:
德國斯派克新SPECTROMAXx直讀光譜儀有臺式和立式兩種可供客戶選擇。SPECTRO MAXx(LMX07)火花直讀光譜儀應(yīng)用非常廣泛,主要適用于冶金、鑄造、壓鑄、鋼鐵和有色金屬行業(yè)的爐前快速分析,石油化工工、汽車制造、航空骯天、機械制造、電子、實驗室以及進(jìn)出廠材料檢測等金屬材料分析。SPECTRO MAXx直讀光譜儀用于測定金屬行業(yè)需要分析的化學(xué)元素 ,包括衡量碳(C)、磷(P)、硫(S),特別是能實現(xiàn)氮(N)元素和稀土元素的分析。具備完備的工作曲線校正模塊,同時可進(jìn)行十種不同基體分析的能力,如:Fe、Al、Cu、Ni、Co、Ti、Mg、Zn、Pb、Sn等。覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)具體需要分析相應(yīng)的元素成份。
SPECTRO MAXx(LMX07)火花直讀光譜儀廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。
二、儀器優(yōu)勢:
1、第二代CCD全譜光譜制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制;
2、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用;
3、升級多基體方便,無須變動增加硬件;
4、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù);
5、體積小、重量輕, 移動安裝方便;
6、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性;
7、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
三、主要特點:
1、可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦 基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線,使儀器用短的時間達(dá)到優(yōu)的分析效果;
3、光學(xué)系統(tǒng)采用非真空恒溫光室, 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性;
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;
5、自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;
6、開放式的電極架設(shè)計,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7、工作曲線采用標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;
9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運行穩(wěn)定性;
10、銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能;
11、合理的氬氣氣路設(shè)計,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;
12、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;
13、高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況;
14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性。
四、SPECTROMAXx參數(shù)指標(biāo):
◆光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)結(jié)構(gòu):帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
光室溫度:自動控制恒溫:35℃±0.5℃
波長范圍:160-800nm
光柵焦距:350 mm
光柵刻線:3600 l/mm
一級光譜線色散率:1.2 nm/mm
探測器:多塊高性能線陣CCD
平均分辨率:10pm/pixel
◆激發(fā)臺
氣體:沖氬式
氬氣流量:激發(fā)時3-5L/min, 待機時:無須待機流量
電極:鎢材噴射電極技術(shù)
吹掃:點擊自吹掃功能
補償:熱變形自補償設(shè)計
分析間隙:樣品臺分析間隙:4mm
◆激發(fā)光源
類型:HEPS數(shù)字化固態(tài)光源
頻率:100-1000Hz
放電電流:1-80A
特殊技術(shù):放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計
預(yù)燃:高能預(yù)燃技術(shù)
◆數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
處理器:ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理
接口:以太數(shù)據(jù)傳輸
◆電源與環(huán)境要求
輸入:220VAC 50Hz
功率:分析時大700W,待機狀態(tài)40W
工作溫度:10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)
工作濕度:20-80%
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)