ICP-AES光譜儀廠(chǎng)家

ICP-AES光譜儀廠(chǎng)家

ICP光譜分析儀（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅，磷等少量的非金屬，共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè)，可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。

一、ICP光譜分析儀整機(jī)主要性能參數(shù)：

1、波長(zhǎng)范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；

2、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；

3、波長(zhǎng)示值和重復(fù)性：波長(zhǎng)示值≤0.02nm，重復(fù)性≤0.003nm；

4、掃描步距：0.0004nm；

5、重復(fù)性：RSD≤1.0%；

6、穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；

7、檢出限：ppb級(jí)；

8、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素；

9、線(xiàn)性范圍：7個(gè)數(shù)量級(jí)以上，且自吸效應(yīng)極低；

10、分析速度：每分鐘掃描最快達(dá)25個(gè)元素以上；

11、等級(jí)證書(shū)：符合標(biāo)準(zhǔn)。

12、規(guī)格要求滿(mǎn)足，測(cè)量范圍：190-500nm

13 規(guī)格大?。洪L(zhǎng)寬高：1.5mＸ0.60mＸ1.2m  立式儀器方便推挪，免裝試驗(yàn)臺(tái)

14 配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)

15 配電腦聯(lián)想

16 配惠普激光打印機(jī)

二、ICP光譜分析儀各部件詳細(xì)參數(shù)：

射頻發(fā)生器（RF）

（1）電路類(lèi)型：電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐?、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號(hào)，進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制；

（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；

（3）頻率穩(wěn)定性：≤0.05%；

（4）輸出功率：800～1200W；

分光器

（1）光路：Czerny－Turner；

（2）焦距：1000mm；

（3）光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵；

（4）分光器恒溫裝置：26℃±1℃。

測(cè)光裝置

（1）光電倍增管規(guī)格：R212UH或R928；

（2）測(cè)光方式：?jiǎn)?、多元素順序測(cè)量。

操作軟件：

（1）操作系統(tǒng)：Windows XP 操作平臺(tái)；

（2）測(cè)定波長(zhǎng)數(shù)：任意選擇；

（3）分析速度：每分鐘最快25個(gè)元素以上；

（4）數(shù)據(jù)庫(kù)：譜線(xiàn)庫(kù)11萬(wàn)條以上；

（5）多窗口：在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量下一樣品；

（6）標(biāo)準(zhǔn)加入法：軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法，以便在不同條件和應(yīng)用中下使用；

（7）分析模式：軟件默認(rèn)最佳分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能；

（8）歷史數(shù)據(jù)庫(kù)：在歷史數(shù)據(jù)庫(kù)中，可以同時(shí)可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果；

（9）數(shù)據(jù)輸出：軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果。

（10）語(yǔ)言：可中英文雙語(yǔ)

（11）有公司自己LOGO