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[供應]STGC-60-12-1200℃-PECVD管式爐系統
【爐管尺寸】φ40--φ100mm
【加熱區】300mm/440mm
【額定溫度】1200℃
【控溫精度】±1℃
【應用領域】PECVD系統(等離子增強化學氣相沉積系統)由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成。
商品描述
【產品名稱】1200℃-PECVD管式爐系統
【爐管尺寸】φ40--φ100mm
【加熱區】300mm/440mm
【額定溫度】1200℃
【控溫精度】±1℃
【應用領域】1200℃-PECVD管式爐系統(等離子增強化學氣相沉積系統)由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成, 本設備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離,在真空腔體內形成等離子體,利用等離子的強化學活性,改善反應條件,使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術,最終得到基片上沉積出所期望的薄膜。
性能特點:
CVD管式爐系統由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源
管式爐可選擇不同的管徑和恒溫區的長度,爐管兩端裝有高真空不銹鋼密封法蘭;
真空獲得系統可根據試驗要求選擇不同的真空泵,旋片式機械真空泵真空度≤5pa,分子泵真空機組真空度1×10-4pa;
氣路供氣系統可選擇3路浮子手動和3路自動質量流量系統
真空測量為數字復合真空機或皮拉尼真空計
等離子體放電選擇13.56Mhz的設備電源,功率輸出可選擇200W、300W和500W
管式爐可選擇單溫區300mm和440mm,也可選擇三溫區或多溫區進行溫度的梯度試驗
溫控器內置的RS485數字通信端口和USB適配器作為可選配置,可連接PC,用于系統的遠程控制和監視,還可以保存或導出測試結果。
產品符合歐盟CE標準。
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