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LFT1200C區域熔融純化設備 爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

1200系列三溫區真空管式爐LFT1200C 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體...

三溫區真空氣氛回轉爐CVD系統 是集三溫區真空回轉爐、三路質量流量計系統及低真空機組而成一種動態狀態下的化學氣相沉積系統。三溫區開啟式真空回轉管式爐采用雙層風冷...

（含預熱器）雙溫區滑軌式CVD系統雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD...

MFC-5Z多通道質量流量控制系統 是一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司...

2通道質量流量控制系統MFC-2Z 是一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司...

LFM1200C-1微型箱式爐 是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，高溫度能達到1100℃，可連續...

LFM1400系列48L箱式爐是以硅碳棒為加熱元件、采用S型熱電偶和30段可編程溫度控制器。側開門結構，方便客戶放取樣品；爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，高...

LFT1200C小型真空管式爐 主要行業有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造等行業進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍...

LFT1400C-II高溫高壓管式爐 爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側，溫場均勻可靠。

雙溫區真空管式爐（分體式）該設備為雙溫區管式爐，加熱部分于電控部分相分離，有效延長電子元器件使用壽命，該設備為開啟式結構設計，石英管橫穿于整個爐膛，環型加熱，確...

LFT1200C-VT小型立式管式爐 該設備采用立式結構設計，石英管豎直放置與爐膛內部，四周加熱絲均勻分布，加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了...

LFT1200C高溫真空回轉爐 該設備容許粉末樣品在高溫狀態下動態燒結處理，配備磁流體密封裝置，使得整個設備處于真空狀態下工作。特殊樣品倉結構設計，避免傳統回轉...

開啟式三溫區真空回轉管式爐 該設備采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

開啟式三溫區真空管式爐 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，該設備設計為...

開啟式雙溫區管式爐 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑...

LFT系列三溫區真空回轉爐 該設備爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

雙溫區滑軌式CVD系統（含預熱器）供應雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。C...

CVD1200C小型滑軌爐（含預熱裝置） 小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。其結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐...

CVD1200C-II-SL雙溫區滑軌式CVD系統 雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐...