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大口徑高溫高壓芯片退火管式爐設備用于較大尺寸（最大尺寸為8英寸）襯底退火處理，設備采用電阻絲為加熱元件，保溫材料為氧化鋁纖維爐膛真空吸附成型，電阻絲為內(nèi)嵌式一體...

LFM系列 1600系列真空氣氛箱式爐 特點：爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計進入爐內(nèi)，并有多處洗爐膛進氣口、出氣口有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、...

CVD石墨烯制備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一...

高溫高壓合成爐設備是根據(jù)SHS技術(shù)發(fā)展的新動向而研制的，采用了許多較新的科技成果，集許多功能于一身，設計使用性能優(yōu)良，具有很好的應用前景和使用價值。

真空氣氛管式爐采用雙層風冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院...

石英管封管設備實現(xiàn)真空封管或惰性氣體封管，通過分子泵或者真空泵將裝有料粉試劑的石英管抽真空或者通入惰性氣氛，再通過氫氧焰對石英管進行融封。

LVU-10低真空系統(tǒng)價格，其極限真空度為10-1Pa， 內(nèi)部安裝有雙級旋片機械泵BSV-10配套使用，其接口為KF25，并配有真空連接管路一套，電阻真空計ZD...

LFT1400C-II高溫高壓管式爐廠家，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。

LFT1400C-II高溫高壓管式爐現(xiàn)貨，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。

化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并...

1600系列高溫管式爐LFT1600C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬...

LSQ-01單工位高真空封管機系統(tǒng)主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧焰機、真空系統(tǒng)、石英管機管接頭組成，標準化定制石英...

粉體自動進出料回轉(zhuǎn)爐它主要用于水泥工業(yè)中煅燒水泥熟料，也用于耐火材料及陶瓷工業(yè)煅燒粒狀及粉狀物料和在上述工業(yè)中干燥各種原料。在化學工業(yè)中廣泛用于干燥、脫水以及焙...

真空氣氛箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，工作溫度能達到1100℃，可連續(xù)工作1000℃，...

簡要介紹區(qū)域熔融純化設備襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。測溫采用性能穩(wěn)...

多面加熱箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，工作溫度能達到1100℃，可連續(xù)工作1000℃，...

設備描述：CVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，...

LFM系列 1200系列真空氣氛箱式爐主要特點：系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱...

主要特點：井式坩堝爐此設備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，最高發(fā)熱溫度可達1200℃。采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，配...

LFT系列單溫區(qū)回轉(zhuǎn)真空管式爐該設備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面生長，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，爐膛使用高純氧化鋁纖維材料...