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| 應用領域 | 環(huán)保,地礦,能源,電子,冶金 |
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
1·稀土難熔金屬爐 MTDH-1000產(chǎn)品用途
非自耗真空電弧爐主要供大專院校或科研機構在真空或保護氣氛下對少量（數(shù)十克至上百克）貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金。
2·稀土難熔金屬爐 MTDH-1000結(jié)構說明
本產(chǎn)品由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構、上電極旋轉(zhuǎn)升降機構，吸鑄模具升降機構，真空系統(tǒng)及電源系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結(jié)構，內(nèi)外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理。結(jié)構新穎外形美觀大方。控制系統(tǒng)與爐體采用一體化設計，并安裝有金屬模擬屏，操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局，并配有模擬圖形，識別度高，方便操作！下電極可裝有五個坩堝工位，一個吸鑄工位 移動上電極可選擇一個進行熔化。上電極可上下移動，方便熔化操作。爐側(cè)有一至二個觀察窗用來操作引弧，觀察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。
真空系統(tǒng)采用二級泵，即K-200油擴散泵（或者分子泵）和TRP-24直聯(lián)泵，操作無聲，無雜音。真空機組上設有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。
電源控制采用電弧熔煉電源，安全系數(shù)高，穩(wěn)定性強。電路設有斷水報警及保護功能。
3·設備參數(shù)
型號 | MTDH-900 | |
電弧熔煉室 | 立式圓筒型真空室，尺寸φ400X400mm | |
真空系統(tǒng)配置 | 機械泵、擴散泵（分子泵）、擋板閥 | |
極限壓力 | ≤6.67x10E-3Pa ≤6.67x10E-4Pa （分子泵） | |
熔煉電流 | 長期工作電流700-1200A | |
熔煉坩堝 | 有五個工位 (半球窩SR25) | |
真空吸鑄裝置 | 提供標準噴鑄模具1套 | |
電弧熔煉陰極裝置 | 引弧方式為高頻引弧 | |
設備占地面積 | 1200*800*1600 | |