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超聲波噴涂系統已被證明適用于需要均勻、可重復的光刻膠或聚酰亞胺薄膜涂層的各種應用。通過控制從亞微米到 100 微米以上的厚度并能夠涂覆任何形狀或尺寸，涂層系統是旋轉和傳統噴涂等其他涂層技術的可行替代方案。

聚酰亞胺和光刻膠涂層的常見應用包括但不限于MEMS、鏡頭、微流體設備、微電子和過濾器。涂層系統能夠在平面和 3D 基板上進行涂層，通常包括硅晶片、玻璃、陶瓷和金屬。

超聲波噴涂是一種簡單、經濟且可重復的光刻膠和聚酰亞胺涂層工藝。超聲波鍍膜系統可以使用簡單的分層技術精確控制流速、鍍膜速度和沉積量。低速噴霧成型將霧化噴霧定義為精確、可控的圖案，避免過度噴涂，同時產生非常薄、均勻的層。

超聲波聚酰亞胺和光刻膠涂層的優勢：

• 各種表面輪廓的均勻薄膜覆蓋。

• 化學和涂層性能的高度靈活性。

• 無堵塞霧化噴霧。

• 傳輸效率高，浪費極少。

• 高度可重復的成熟噴涂工藝。

超聲波噴涂系統使用高頻聲音振動產生由數學定義的液滴組成的柔和霧氣。消除了堵塞，因為沒有使用壓力來產生噴霧，并且液滴具有非常窄的液滴分布尺寸，進一步有助于沉積層的均勻性。