當前位置:上海群弘儀器設備有限公司>>技術文章>>濕法激光顆粒度儀Mie散射理論
隨著科學技術的日益進步和發展,在國民經濟的許多部門,如能源、動力、機械、醫藥、化工、輕工、冶金、建材等行業中都出現了越來越多的細微顆粒密切相關的技術問題有待解決,顆粒粒徑大小的測量是其中基本也是重要的一個方面。許多情況下,顆粒粒徑大小不僅直接影響到產品的性能與質量,而且對工藝過程的優化、能源消耗的降低、環境污染的減少等都有重大的關聯。 近年來,與高新技術、國防工業、軍事科學等密切相關的各種新型顆粒材料,特別是超細納米顆粒的問世和利用,給顆粒粒徑的測量提出了新的和更高的要求,不但要求快速、自動化數據處理、而且也要求提供可靠的更豐富的數據和更有用的信息,以滿足科研領域和工業質量控制方面應用的需要。儀器集先進激光技術、半導體技術、光電技術、微電子技術和計算機技術的應用,綜合了光、機、電、計算機于一體,以光散射理論為基礎的顆粒粒徑測量技術突出的優點逐步取代了一些傳統的常規測量方法,必將成為一代新穎的顆粒粒徑測量儀器。并且在科研領域和工業質量控制的粒度分布分析中發揮著越來越大的作用。
本儀器符合但并不局限于以下標準:
ISO 13320-2009 G/BT 19077.1-2008 粒度分析 激光衍射法
技術參數:
1. 理論依據:Mie散射理論
2. 粒徑測量范圍:0.1-200um
3. 光源:半導體制冷恒溫控制紅光固體激光光源,波長635nm
4. 重復性誤差:<1%(標準D50偏差)
5. 測量誤差:<1%(標準D50偏差,用國家標準顆粒檢驗)
6. 檢測器:32或48或64或更高通道硅光電二極管
7. 樣品池:滴樣法樣品池10mL;循環樣品池(500mL內置超聲分散、攪拌裝置)
8. 測量分析時間:正常條件下小于1分鐘(從開始測量到顯示分析結果)
9. 輸出內容:體積、數量微分分布和累積分布表和圖表;多種統計平均直徑;操作者信息;實驗樣品信息、分散介質信息等。
10. 顯示方式:內嵌10.8寸工業級別的電腦,可連接鍵盤、鼠標、U盤
11. 電腦系統:WIN 10系統,30GB硬盤容量、2GB系統內存
12. 電源:220V,50 Hz
工作條件:
l 1.室內溫度:15℃-35℃
l 2.相對溫度:不大于85%(無冷凝)
l 3.建議用交流穩壓電源1KV,無強磁場干擾。
l 4.由于在微米級的范圍內的測量,儀器應放在堅固可靠、無振動的工作臺上,并且在少塵條件下進行測量。
l 5.儀器不應放在太陽直射、風大或溫度變化大的場所。
l 6.設備必須接地,保證安全和高精度。
7.室內應清潔、防塵、無腐蝕性氣體。
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