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PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機
  • PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機
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貨物所在地:上海上海市

更新時間:2024-09-30 21:00:07

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PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機使用性能出色的組件和軟件,可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、

Pluto-MD(8L)小型等離子去膠機特點:

1. 桌面型,普通實驗臺即可安置。操作簡便上手快、使用成本極低、易于維護。1


2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠,可選配硅片專用托盤。


3.內置雙層氣浴電極,有效提高清洗效率。配有節流閥,防止真空泵油霧回流。可選配耐用電極,降低長時間使用后的腔體污染。


4.配置200W/13.56MHz等離子發生器。兼顧物理作用和化學作用。

5.具備前后吹掃功能,保證樣品處理潔凈度,可配置獨立吹掃氣路。


6.可選配電極間距可調,對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。

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Pluto-MD(8L)小型等離子去膠機參數:

參數.jpg


Pluto-MD(8L)小型等離子去膠機應用:




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