Nanoscribe QX系列雙光子無掩
Nanoscribe發布全新工業級高精度無掩膜光刻系統
全新Quantum X shape:
重新定義高精度,高產量,體驗感
全新Quantum X shape系統作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統Quantum X平臺產品系列的第二臺設備,可實現在25 cm²面積內打印任何結構,大大推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。
作為Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,Quantum X shape用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供*的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之,該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性(如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(MEMS)等)。
實現最高精度制作3D微納加工技術
雙光子聚合(2PP)是一種可實現最高精度和*設計自由度的增材制造方法。而作為同類最佳的3D微加工系統Quantum X shape具有下列優異性能:
-
* 在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級打印
-
* 制作高達 50 毫米的目標結構,適用于中尺度打印
優化平衡精度和速度以提高產量
高速3D微納加工系統Quantum X shape可實現優異形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了高科技振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。Quantum X shape具有激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至最佳掃描速度,并以 1 MHz 調制速率動態調整激光功率。
Quantum X shape 帶有*的自動界面查找功能,可以以低至 30 納米的精度檢測基板表面。這種在最高掃描速度下的納米級精度體現,再加上自校準程序,可在最短的時間內實現可靠和準確的打印,為 3D 微納加工樹立了新。這些優異的性能使Quantum X shape 成為快速原型制作和應用于微納光學
使用Nanoscribe微納加工技術制作的3D微針,輕松實現具有高縱橫比,形狀精度和鋒利邊緣的不同設計變化。
簡單高效的工作流程以實現最佳體驗感
光敏樹脂的自動分配功能對于晶圓級加工和小批量生產的工業制造十分重要。用戶還可以通過設備的集成觸控屏直接或遠程訪問Quantum X shape打印系統來控制打印作業。通過遠程訪問軟件nanoConnectX ,用戶可以看到觸控屏的顯示選項并操控所有功能,實現從任何地方啟動、監控和控制連接打印系統的打印作業進程。這使得整個小組成員(例如研究小組貨部門所有成員)均可在個人電腦訪問打印系統。實現了盡可能限度減少實驗室準備時間,簡化并提高整個制備、執行和監控打印作業效率,并在共享系統時大大提升團隊協作。
3D微納加工新勢力助力未來科技
Quantum X shape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行最高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的第一臺雙光子灰度光刻 (2GL ®) 系統Quantum X的同系列產品,Quantum X shape提升了3D微納加工能力,即做到大限度平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級Quantum X 打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。
更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產品咨詢
歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司
德國Nanoscribe 超高精度雙光子微納加工系統:
Photonic Professional GT2 雙光子微納3D無掩模光刻系統
Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備
Quantum X shape 雙光子無掩膜光刻系統