電子光學系統 | 電子槍類型 | 預對中型發叉式鎢燈絲電子槍 |
分辨率 | 2.5 nm @ 20 kV | |
4 nm @ 3 kV | ||
5 nm @ 1 kV | ||
放大倍率 | 1 x~300,000 x | |
加速電壓 | 0.1 kV~30 kV | |
成像系統 | 探測器 | 二次電子探測器(ETD)、鏡筒內電子探測器 |
*背散射電子探測器、*能譜儀EDS等 | ||
圖像保存格式 | TIFF、JPG、BMP、PNG | |
真空系統 | 真空模式 | 優于5×10-4 Pa |
控制方式 | 全自動控制 | |
樣品室 | 攝像頭 | 光學導航 |
樣品倉內監控 | ||
樣品臺配置 | 五軸自動 | |
軟件 | 語言 | 中文 |
操作系統 | Windows | |
導航 | 光學導航、手勢快捷導航 | |
自動功能 | 自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 |