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microArch S240 10μm精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PµSL）構建，并融入了摩方自主開發的多項技術。摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。
*的薄膜滾刀涂層技術允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂，從而生產出耐候性更強、功能更強大的零部件；
能夠打印工業級復合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發的全新功能工程材料。
| 打印技術 PμSL | 光源 UV-LED | 波長 405nm |
| 打印材料 光敏樹脂/陶瓷 | 輸入數據文件格式 STL | 光學分辨率 10μm |
| 打印尺寸 100 × 100 × 75 mm | 層厚 10-40μm | 公差 +/- 25μm |
| 設備功率 3000W | 打印主機尺寸 650 x 700 x 790 mm | 打印機重量 350kg |
| 電壓 220V | 認證證書 CE |
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
工業級復合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。
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