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產品簡介
Nanonex Lumina-200納米壓印為電子，光電，MEMS和許多其他應用中的高分辨率，對準，接觸和接近光刻提供了高質量，可靠且經濟高效的解決方案。
詳細介紹
Nanonex Lumina-200納米壓印獨立式高分辨率光刻/對準器。 Lumina系列為電子，光電，MEMS和許多其他應用中的高分辨率，對準，接觸和接近光刻提供了高質量，可靠且經濟高效的解決方案。 它具有易于使用的界面，高精度的載物臺，高性能的光學元件和較小的占地面積。
Nanonex Lumina-200納米壓印主要特點
高分辨率光刻
高精度對準平臺
*的對準光學
間隙控制
用戶友好的PC控制
占地面積小
具有成本效益的設計
背面對齊可選
應用領域：半導體器件 *微機電系統 *光電子學 *高級包裝 *電力設備
技術參數
手冊X-Y-?
帶稱重傳感器的電動Z
移動范圍： X和Y：1英寸
?：10度
Z：0.25英寸
掩膜加載能力
5”口罩標準
其他尺寸可選
基板裝載能力
4”標準
其他尺寸可選
對準 模式：接近、柔和、硬
對準光學
分割欄 5倍物鏡，1到7倍變焦
2個獨立的手動X，Y，Z顯微鏡移動 精細粗調
通過CCD相機成像
曝光系統
紫外線：汞燈，帶有可選的G線或I線過濾器
紫外線燈功率：500瓦
紫外線均勻照射
電動紫外線燈移動
具有Microsoft Windows的基于PC的控制計算機
用戶友好的控制軟件 PC控制的CCD視頻
紫外線燈曝光由電腦控制
占地面積：31英寸乘44英寸（780毫米乘1110毫米）